| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第19-28页 |
| 1.1 所选课题的题目及课题来源 | 第19页 |
| 1.2 本课题的研究意义 | 第19-20页 |
| 1.3 (19)~F NMR的发展 | 第20-21页 |
| 1.3.1 核磁共振波谱学的简介 | 第20-21页 |
| 1.3.2 (19)~F NMR的兴起 | 第21页 |
| 1.4 (19)~F NMR的介绍 | 第21-23页 |
| 1.4.1 (19)~F NMR的化学位移 | 第22页 |
| 1.4.2 (19)~F NMR的耦合常数 | 第22-23页 |
| 1.5 (19)~F NMR的新技术 | 第23-24页 |
| 1.5.1 同核位移相关谱 | 第23页 |
| 1.5.2 异核位移相关谱 | 第23-24页 |
| 1.6 (19)~F NMR的应用 | 第24-26页 |
| 1.6.1 在化合物结构测定中的应用 | 第24-25页 |
| 1.6.2 在定量分析测定中的应用 | 第25-26页 |
| 1.6.3 在其他领域上的应用 | 第26页 |
| 1.7 课题研究的内容与方法 | 第26-28页 |
| 1.7.1 研究内容 | 第26页 |
| 1.7.2 研究方法 | 第26-28页 |
| 第二章 含氟化合物核磁共振谱图集的建立与研究 | 第28-87页 |
| 2.1 引言 | 第28页 |
| 2.2 实验部分 | 第28-30页 |
| 2.2.1 仪器与试剂 | 第28-29页 |
| 2.2.2 核磁共振实验 | 第29-30页 |
| 2.3 无机含氟化合物的测试结果与讨论 | 第30页 |
| 2.3.1 无机含氟化合物标样氟谱的测试结果(谱图如附录一所示) | 第30页 |
| 2.4 无机含氟化合物氟谱化学位移和耦合常数的研究 | 第30-33页 |
| 2.4.1 无机含氟化合物氟谱化学位移的变化规律 | 第30-32页 |
| 2.4.2 无机含氟化合物氟谱的耦合常数 | 第32-33页 |
| 2.5 有机含氟化合物的测试结果与讨论 | 第33-35页 |
| 2.5.1 有机含氟化合物标样氟谱的测试结果(谱图如附录一所示) | 第33-35页 |
| 2.5.2 文献中常见有机含氟化合物氟谱的测试结果(谱图如附录一所示) | 第35页 |
| 2.6 含CF官能团有机化合物氟谱化学位移和耦合常数的研究 | 第35-58页 |
| 2.6.1 含CH_2F基团的饱和烷烃氟化物 | 第35-38页 |
| 2.6.2 含CHF基团的饱和烷烃氟化物 | 第38-39页 |
| 2.6.3 含CF基团的饱和烷烃氟化物 | 第39-40页 |
| 2.6.4 含CHF基团的饱和环烷烃氟化物 | 第40页 |
| 2.6.5 卤素的取代对氟核的影响 | 第40-43页 |
| 2.6.6 羟基、醚、酯、硫、砜基团对氟核的影响 | 第43-45页 |
| 2.6.7 胺基和铵盐基团对氟核的影响 | 第45页 |
| 2.6.8 磷原子对氟核的影响 | 第45-46页 |
| 2.6.9 硅原子对氟核的影响 | 第46-47页 |
| 2.6.10 羰基官能团对氟核的影响 | 第47页 |
| 2.6.11 腈基官能团对氟核的影响 | 第47-48页 |
| 2.6.12 烯键上取代一个氟原子的氟化物 | 第48-50页 |
| 2.6.13 共轭链烯烃含氟化合物 | 第50页 |
| 2.6.14 烯丙基位上取代的醇类,醚类,卤素类官能团对氟谱的影响 | 第50-51页 |
| 2.6.15 卤代氟乙烯和氟乙烯基醚含氟化合物 | 第51页 |
| 2.6.16 相邻的两个氟原子在烯键两端取代 | 第51-52页 |
| 2.6.17 单氟取代氟苯类 | 第52-54页 |
| 2.6.18 氟原子的空间去屏蔽效应 | 第54-55页 |
| 2.6.19 芳烃的多氟取代 | 第55页 |
| 2.6.20 五氟取代苯化合物氟谱 | 第55-56页 |
| 2.6.21 吡啶和喹啉含氟化合物 | 第56-57页 |
| 2.6.22 含氟吡咯、呋喃和噻吩杂环化合物 | 第57-58页 |
| 2.6.23 酰氟和磺酰氟化合物 | 第58页 |
| 2.7 含CF_2官能团的含氟化合物 | 第58-69页 |
| 2.7.1 含CH_2F基团的饱和烷烃化合物 | 第58-59页 |
| 2.7.2 含-CF_2-基团的烷烃化合物 | 第59-61页 |
| 2.7.3 卤素的取代对氟核的影响 | 第61-62页 |
| 2.7.4 CF_2基团与羟基、醚、硫醚等基团相连的类似含氟化合物 | 第62-63页 |
| 2.7.5 CF_2基团前后都与电负性基团相连的化合物 | 第63-64页 |
| 2.7.6 含-CF_2H或-CF_2-基团的氮磷含氟化合物 | 第64页 |
| 2.7.7 含CF_2H基团的硅烷和金属有机含氟化合物 | 第64-65页 |
| 2.7.8 -CF_2H或-CF_2-基团与羰基相连的含氟化合物 | 第65页 |
| 2.7.9 -CF_2H或-CF_2-基团与腈类相连的含氟化合物 | 第65-66页 |
| 2.7.10 端基为CF_2基团的烯烃类化合物 | 第66页 |
| 2.7.11 端基为CF_2的共轭烯烃化合物 | 第66-67页 |
| 2.7.12 卤素或醚官能团对烯键上端基CF_2的影响 | 第67页 |
| 2.7.13 烯键端基是CF_2基团的α,β不饱和酮含氟化合物 | 第67-68页 |
| 2.7.14 烯丙基或炔丙基位上是CF_2基团的含氟化合物 | 第68页 |
| 2.7.15 苯环上取代CF_2基团的化合物 | 第68页 |
| 2.7.16 杂环上取代CF_2基团的化合物 | 第68-69页 |
| 2.8 含CF_3官能团的含氟化合物氟谱化学位移和耦合常数的研究 | 第69-78页 |
| 2.8.1 含CF_3基团的饱和烷烃 | 第69-70页 |
| 2.8.2 卤素对三氟甲基上氟核的影响 | 第70-71页 |
| 2.8.3 氧族元素对三氟甲基上氟核的影响 | 第71页 |
| 2.8.4 氮原子对三氟甲基上氟核的影响 | 第71-72页 |
| 2.8.5 含三氟甲基的有机金属化合物 | 第72页 |
| 2.8.6 羰基对三氟甲基上氟核的影响 | 第72-73页 |
| 2.8.7 CF_3基团与腈类相连的含氟化合物 | 第73-74页 |
| 2.8.8 CF_3基团与磺酸根相连的含氟化合物 | 第74页 |
| 2.8.9 烯丙基位上是CF_3基团的含氟化合物 | 第74-75页 |
| 2.8.10 在端烯位上是CF_3基团的α,β-不饱和碳基含氟化合物 | 第75-76页 |
| 2.8.11 CF_3基团与三键相连的炔烃含氟化合物 | 第76页 |
| 2.8.12 CF_3基团在芳环上取代的含氟化合物 | 第76-77页 |
| 2.8.13 CF_3在杂环上取代的含氟化合物 | 第77-78页 |
| 2.9 多氟取代的含氟化合物氟谱化学位移的变化规律 | 第78-87页 |
| 2.9.1 含1,1,2或1,2,2三氟乙基基团的化合物 | 第78-79页 |
| 2.9.2 含1,1,2,2-四氟乙基或2,2,3,3-四氟丙基的化合物 | 第79-80页 |
| 2.9.3 含1,2,2,2-四氟乙基基团的化合物 | 第80页 |
| 2.9.4 含五氟乙基基团的化合物 | 第80-81页 |
| 2.9.5 含2,2,3,3,3-五氟丙基的化合物 | 第81-82页 |
| 2.9.6 含1,1,2,3,3,3-六氟丙基的化合物 | 第82页 |
| 2.9.7 含六氟异丙基的化合物 | 第82-83页 |
| 2.9.8 含七氟正丙基的化合物 | 第83-84页 |
| 2.9.9 含七氟异丙基的化合物 | 第84页 |
| 2.9.10 含九氟正丁基和九氟叔丁基的化合物 | 第84-85页 |
| 2.9.11 含更多氟烷基的化合物 | 第85页 |
| 2.9.12 只含一个氢原子的直链全氟烷烃 | 第85-86页 |
| 2.9.13 全氟烷烃化合物 | 第86-87页 |
| 第三章 含氟化合物核磁共振谱图集的应用 | 第87-120页 |
| 3.1 引言 | 第87页 |
| 3.2 试剂与仪器 | 第87页 |
| 3.3 样品配方的检测方法与分析 | 第87-120页 |
| 3.3.1 对清洗剂配方的检测与分析 | 第87-98页 |
| 3.3.2 对金属表面处理剂配方的检测与分析 | 第98-106页 |
| 3.3.3 对电镀添加剂配方的检测与分析 | 第106-108页 |
| 3.3.4 对表面保护剂配方的检测与分析 | 第108-120页 |
| 结论 | 第120-122页 |
| 参考文献 | 第122-133页 |
| 附录一 含氟化合物核磁共振谱图集 | 第133-241页 |
| 攻读硕士研究生期间发表的论文 | 第241-243页 |
| 致谢 | 第243页 |
