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TOF-SIMS二次离子检测技术研究

提要第4-5页
中文摘要第5-8页
abstract第8-11页
第1章 绪论第15-31页
    1.1 研究背景与意义第15-19页
        1.1.1 研究背景第15-18页
        1.1.2 研究意义第18-19页
    1.2 国内外发展现状第19-28页
        1.2.1 TOF-SIMS技术研究发展现状第19-22页
        1.2.2 TOF-SIMS二次离子检测技术的研究现状第22-27页
        1.2.3 TOF-SIMS二次离子检测技术存在的问题第27-28页
    1.3 论文研究内容第28-31页
第2章 单反射无栅网二次离子质量分析器研制第31-59页
    2.1 引言第31-32页
    2.2 二次离子质量分析器总体设计第32-36页
    2.3 无栅网离子反射镜第36-40页
        2.3.1 反射镜参数设计第36-38页
        2.3.2 反射镜结构设计第38-40页
    2.4 二次离子的多次聚焦技术第40-42页
    2.5 高精度离子检测器第42-48页
        2.5.1 离子检测器结构第43-44页
        2.5.2 离子延时分离技术第44-48页
    2.6 质量分析器的测试与优化第48-58页
        2.6.1 多聚焦透镜组对传输效率的影响第48-49页
        2.6.2 偏转板组对传输效率的影响第49-51页
        2.6.3 多次迭代的调试方法第51-52页
        2.6.4 偏转板对质量分馏的影响第52-53页
        2.6.5 延时脉冲提取测试第53-55页
        2.6.6 离子传输效率测试第55-56页
        2.6.7 二次离子谱峰数据测试第56-58页
    2.7 本章小结第58-59页
第3章 二次离子束斑的实时检测方法研究第59-79页
    3.1 引言第59-61页
    3.2 多角度切割线包围的离子束斑检测方法第61-65页
        3.2.1 改进型刀边法测量束斑研究第61-62页
        3.2.2 多角度切割线包围检测法设计第62-65页
    3.3 多角度切割线包围检测法的实验研究第65-73页
    3.4 二次离子束斑的实时检测第73-76页
    3.5 本章小结第76-79页
第4章 二次离子重叠谱峰的分离方法研究第79-93页
    4.1 引言第79页
    4.2 二次离子谱峰特征分析第79-83页
        4.2.1 谱图的质量标定第79-82页
        4.2.2 特征峰的提取第82-83页
    4.3 基于特征峰匹配的二次离子重叠谱峰分离算法第83-85页
    4.4 算法的仿真比较第85-89页
    4.5 算法的应用研究第89-92页
    4.6 本章小结第92-93页
第5章 TOF-SIMS应用测试实验第93-109页
    5.1 引言第93页
    5.2 TOF-SIMS铜合金分析第93-102页
        5.2.1 样品制备第94-96页
        5.2.2 实验方法第96-99页
        5.2.3 结果与讨论第99-102页
    5.3 银同位素分析第102-105页
    5.4 TOF-SIMS应用测试的结果分析第105-106页
    5.5 本章小结第106-109页
第6章 总结与展望第109-112页
    6.1 主要研究成果及创新点第109-110页
    6.2 存在的问题及下一步工作建议第110-112页
参考文献第112-125页
博士期间取得的主要学术成果第125-127页
致谢第127页

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