提要 | 第4-5页 |
中文摘要 | 第5-8页 |
abstract | 第8-11页 |
第1章 绪论 | 第15-31页 |
1.1 研究背景与意义 | 第15-19页 |
1.1.1 研究背景 | 第15-18页 |
1.1.2 研究意义 | 第18-19页 |
1.2 国内外发展现状 | 第19-28页 |
1.2.1 TOF-SIMS技术研究发展现状 | 第19-22页 |
1.2.2 TOF-SIMS二次离子检测技术的研究现状 | 第22-27页 |
1.2.3 TOF-SIMS二次离子检测技术存在的问题 | 第27-28页 |
1.3 论文研究内容 | 第28-31页 |
第2章 单反射无栅网二次离子质量分析器研制 | 第31-59页 |
2.1 引言 | 第31-32页 |
2.2 二次离子质量分析器总体设计 | 第32-36页 |
2.3 无栅网离子反射镜 | 第36-40页 |
2.3.1 反射镜参数设计 | 第36-38页 |
2.3.2 反射镜结构设计 | 第38-40页 |
2.4 二次离子的多次聚焦技术 | 第40-42页 |
2.5 高精度离子检测器 | 第42-48页 |
2.5.1 离子检测器结构 | 第43-44页 |
2.5.2 离子延时分离技术 | 第44-48页 |
2.6 质量分析器的测试与优化 | 第48-58页 |
2.6.1 多聚焦透镜组对传输效率的影响 | 第48-49页 |
2.6.2 偏转板组对传输效率的影响 | 第49-51页 |
2.6.3 多次迭代的调试方法 | 第51-52页 |
2.6.4 偏转板对质量分馏的影响 | 第52-53页 |
2.6.5 延时脉冲提取测试 | 第53-55页 |
2.6.6 离子传输效率测试 | 第55-56页 |
2.6.7 二次离子谱峰数据测试 | 第56-58页 |
2.7 本章小结 | 第58-59页 |
第3章 二次离子束斑的实时检测方法研究 | 第59-79页 |
3.1 引言 | 第59-61页 |
3.2 多角度切割线包围的离子束斑检测方法 | 第61-65页 |
3.2.1 改进型刀边法测量束斑研究 | 第61-62页 |
3.2.2 多角度切割线包围检测法设计 | 第62-65页 |
3.3 多角度切割线包围检测法的实验研究 | 第65-73页 |
3.4 二次离子束斑的实时检测 | 第73-76页 |
3.5 本章小结 | 第76-79页 |
第4章 二次离子重叠谱峰的分离方法研究 | 第79-93页 |
4.1 引言 | 第79页 |
4.2 二次离子谱峰特征分析 | 第79-83页 |
4.2.1 谱图的质量标定 | 第79-82页 |
4.2.2 特征峰的提取 | 第82-83页 |
4.3 基于特征峰匹配的二次离子重叠谱峰分离算法 | 第83-85页 |
4.4 算法的仿真比较 | 第85-89页 |
4.5 算法的应用研究 | 第89-92页 |
4.6 本章小结 | 第92-93页 |
第5章 TOF-SIMS应用测试实验 | 第93-109页 |
5.1 引言 | 第93页 |
5.2 TOF-SIMS铜合金分析 | 第93-102页 |
5.2.1 样品制备 | 第94-96页 |
5.2.2 实验方法 | 第96-99页 |
5.2.3 结果与讨论 | 第99-102页 |
5.3 银同位素分析 | 第102-105页 |
5.4 TOF-SIMS应用测试的结果分析 | 第105-106页 |
5.5 本章小结 | 第106-109页 |
第6章 总结与展望 | 第109-112页 |
6.1 主要研究成果及创新点 | 第109-110页 |
6.2 存在的问题及下一步工作建议 | 第110-112页 |
参考文献 | 第112-125页 |
博士期间取得的主要学术成果 | 第125-127页 |
致谢 | 第127页 |