| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 土霉素废水概述 | 第8-11页 |
| 1.1.1 土霉素使用现状 | 第8页 |
| 1.1.2 环境中土霉素废水来源 | 第8-9页 |
| 1.1.3 土霉素废水的处理现状 | 第9-11页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第11-14页 |
| 1.2.1 半导体光催化简介 | 第11页 |
| 1.2.2 半导体光催化原理 | 第11-13页 |
| 1.2.3 TiO_2光催化剂的改性 | 第13-14页 |
| 1.3 催化剂的制备方法 | 第14-16页 |
| 1.3.1 燃烧合成法 | 第14页 |
| 1.3.2 微乳液法 | 第14-15页 |
| 1.3.3 溶胶凝胶法 | 第15页 |
| 1.3.4 水热反应法 | 第15-16页 |
| 1.3.5 电化学合成法 | 第16页 |
| 1.4 土霉素降解机理研究现状 | 第16页 |
| 1.5 选题依据、研究目标和研究内容 | 第16-18页 |
| 1.5.1 本论文选题目的与意义 | 第16-17页 |
| 1.5.2 本论文主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 CdS-TiO_2复合催化剂合成、表征及合成机理 | 第18-40页 |
| 2.1 引言 | 第18-19页 |
| 2.2 材料与方法 | 第19-27页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器设备 | 第19-20页 |
| 2.2.2 CdS-TiO_2复合催化剂 | 第20-21页 |
| 2.2.3 目标污染物 | 第21页 |
| 2.2.4 可见光光催化反应装置 | 第21-23页 |
| 2.2.5 测试与表征方法 | 第23-27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-38页 |
| 2.3.1 催化剂性能评价 | 第27-28页 |
| 2.3.2 CdS-TiO_2复合催化剂性能表征 | 第28-38页 |
| 2.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第三章 CdS-TiO_2复合催化剂光催化降解土霉素性能研究 | 第40-70页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 实验部分 | 第40-42页 |
| 3.2.1 实验试剂与仪器 | 第40-41页 |
| 3.2.2 活性评价体系 | 第41-42页 |
| 3.3 试验结果与讨论 | 第42-67页 |
| 3.3.1 CdS-TiO_2复合催化剂可见光下降解土霉素的影响因素 | 第42-50页 |
| 3.3.2 溶液中的离子对土霉素的光降解的影响 | 第50-59页 |
| 3.3.3 土霉素处理前后TOC去除率 | 第59-60页 |
| 3.3.4 土霉素处理前后UV-Vis曲线分析 | 第60-61页 |
| 3.3.5 CdS-TiO_2光催化降解土霉素的动力学分析 | 第61-64页 |
| 3.3.6 CdS-TiO_2在不同光源下的活性讨论 | 第64页 |
| 3.3.7 太阳光下CdS-TiO_2复合光催化剂对土霉素降解效果 | 第64-65页 |
| 3.3.8 重复利用CdS-TiO_2复合光催化剂降解土霉素 | 第65-67页 |
| 3.4 本章小结 | 第67-70页 |
| 第四章 光催化降解土霉素机理探讨 | 第70-92页 |
| 4.1 引言 | 第70页 |
| 4.2 实验部分 | 第70-72页 |
| 4.2.1 实验试剂与仪器 | 第70-71页 |
| 4.2.2 氧化基团能力分析 | 第71页 |
| 4.2.3 可见光降解土霉素机理 | 第71-72页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第72-89页 |
| 4.3.1 氧化基团去除土霉素能力的分析 | 第72-75页 |
| 4.3.2 土霉素光催化降解的HPLC/MS测试结果分析 | 第75-80页 |
| 4.3.3 土霉素光催化降解的机理分析 | 第80-89页 |
| 4.4 本章小结 | 第89-92页 |
| 结论 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-106页 |
| 致谢 | 第106-107页 |
| 个人简历 | 第107页 |
