摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-17页 |
1.1 课题背景 | 第11-13页 |
1.1.1 引言 | 第11页 |
1.1.2 CPA系统中的脉冲压缩光栅及分类 | 第11-13页 |
1.2 脉冲压缩光栅的研究进展 | 第13-14页 |
1.3 论文的研究目的 | 第14页 |
1.4 论文的研究工作 | 第14-17页 |
第二章 宽带镀金脉冲压缩光栅的研制 | 第17-45页 |
2.1 正弦宽带镀金脉冲压缩光栅的研制 | 第17-27页 |
2.1.1 引言 | 第17-18页 |
2.1.2 正弦宽带镀金光栅的制作 | 第18-21页 |
2.1.2.1 梯形光栅-涂胶-离子束溅射镀膜工艺 | 第19-20页 |
2.1.2.2 全息光刻-离子束溅射镀膜工艺 | 第20-21页 |
2.1.3 实验结果与讨论 | 第21-26页 |
2.1.4 小结 | 第26-27页 |
2.2 正弦顶宽带镀金脉冲压缩光栅的研制 | 第27-45页 |
2.2.1 引言 | 第27页 |
2.2.2 设计 | 第27-32页 |
2.2.3 制作 | 第32-43页 |
2.2.4 小结 | 第43-45页 |
第三章 金属介质膜脉冲压缩光栅及刻蚀工艺研究 | 第45-63页 |
3.1 引言 | 第45页 |
3.2 金属介质膜脉冲压缩光栅 | 第45-46页 |
3.3 金属介质膜脉冲压缩光栅的刻蚀 | 第46-50页 |
3.4 衍射效率测量及分析 | 第50-60页 |
3.5 本章小结 | 第60-63页 |
第四章 提高多层介质膜光栅效率的方法 | 第63-79页 |
4.1 引言 | 第63-64页 |
4.2 多层介质膜脉冲压缩光栅特性分析 | 第64-66页 |
4.2.1 光栅与超短脉冲作用性能分析 | 第64页 |
4.2.2 无阻刻层时SiO_2顶层PCG衍射效率分析 | 第64-66页 |
4.3 提高多层介质膜脉冲压缩光栅衍射效率的方法 | 第66-69页 |
4.3.1 提高衍射效率实验方案及关键问题 | 第66-68页 |
4.3.2 实验方法 | 第68-69页 |
4.4 实验结果及分析 | 第69-75页 |
4.5 衍射效率测量 | 第75-77页 |
4.5.1 衍射效率测量光路设计 | 第75-77页 |
4.6 本章小结 | 第77-79页 |
第五章 总结与展望 | 第79-81页 |
5.1 论文的工作总结 | 第79-80页 |
5.2 论文的主要创新点 | 第80页 |
5.3 展望 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-91页 |
作者攻读博士学位期间发表的论文 | 第91-93页 |
致谢 | 第93-94页 |