| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 电致变色材料的特性 | 第12-14页 |
| 1.2.1 电致变色材料的种类 | 第12-13页 |
| 1.2.2 电致变色材料的发展 | 第13页 |
| 1.2.3 应用前景及存在的问题 | 第13-14页 |
| 1.3 WO_3的基本性质 | 第14-15页 |
| 1.3.1 WO_3的晶体结构 | 第14-15页 |
| 1.3.2 WO_3的制备方法 | 第15页 |
| 1.4 WO_3在电致变色材料上的应用 | 第15-16页 |
| 1.4.1 WO_3电致变色简介 | 第15-16页 |
| 1.4.2 WO_3电致变色装置和原理 | 第16页 |
| 1.5 WO_3薄膜在光催化方面的应用 | 第16-18页 |
| 第二章 三氧化钨的制备方法及表征手段 | 第18-23页 |
| 2.1 WO_3薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| 2.1.1 磁控溅射法 | 第18-19页 |
| 2.1.2 溶胶凝胶法 | 第19-20页 |
| 2.2 WO_3薄膜的表征 | 第20-23页 |
| 2.2.1 X射线衍射物象分析 | 第20页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第20-21页 |
| 2.2.3 透射谱 | 第21页 |
| 2.2.4 光催化性能 | 第21页 |
| 2.2.5 电化学性能 | 第21-23页 |
| 第三章 磁控溅射和溶胶凝胶法制备三氧化钨薄膜及表征 | 第23-39页 |
| 3.1 磁控溅射法制备WO_3薄膜 | 第23-30页 |
| 3.1.1 改变溅射功率制备WO_3薄膜 | 第25-27页 |
| 3.1.2 改变溅射压强制备WO_3薄膜 | 第27-28页 |
| 3.1.3 改变Ar-O2比例制备WO_3薄膜 | 第28-30页 |
| 3.2 WO_3薄膜透射谱的研究 | 第30-33页 |
| 3.3 WO_3薄膜的表面形貌 | 第33-34页 |
| 3.4 WO_3薄膜的循环伏安性能 | 第34-36页 |
| 3.5 溶胶凝胶法制备WO_3薄膜样品 | 第36-37页 |
| 3.5.1 试剂与原料 | 第36页 |
| 3.5.2 仪器与设备 | 第36-37页 |
| 3.5.3 WO_3薄膜的制备 | 第37页 |
| 3.6 总结 | 第37-39页 |
| 第四章 阳极氧化铝的制备 | 第39-45页 |
| 4.1 AAO的基本介绍 | 第39-40页 |
| 4.2 实验材料及仪器 | 第40-41页 |
| 4.2.1 试剂与原料 | 第40页 |
| 4.2.2 仪器与设备 | 第40-41页 |
| 4.3 阳极氧化前的处理 | 第41-42页 |
| 4.4 阳极氧化法制备AAO模板 | 第42-43页 |
| 4.5 二次阳极氧化法制备的AAO模板 | 第43-44页 |
| 4.6 总结 | 第44-45页 |
| 第五章 三氧化钨和阳极氧化铝的复合 | 第45-50页 |
| 5.1 基于AAO模板WO_3薄膜的表面形貌 | 第45-47页 |
| 5.2 基于AAO模板WO_3薄膜的光催化性能 | 第47-49页 |
| 5.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 论文总结 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 科研成果 | 第60页 |