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箔片云团动态散射研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
符号对照表第10-11页
缩略语对照表第11-14页
第一章 绪论第14-20页
    1.1 研究背景及意义第14-16页
    1.2 国内外研究现状第16-18页
        1.2.1 箔条运动扩散特性研究第16-17页
        1.2.2 箔条雷达回波特性研究第17-18页
    1.3 论文的主要工作和结构安排第18-20页
第二章 基于矩量法的单根箔片散射特性研究第20-30页
    2.1 矩量法基本原理第20-23页
        2.1.1 矩量法的基本原理第20-21页
        2.1.2 矩量法基函数与权函数的选取第21-23页
    2.2 矩量法解电场积分方程(EFIE)第23-26页
    2.3 奇异点的处理第26-27页
    2.4 单根箔片散射特性的研究第27-28页
    2.5 本章小结第28-30页
第三章 箔片云团扩散模型第30-46页
    3.1 基于自由分子流的箔片受力分析第30-34页
    3.2 单根箔片运动方程第34-35页
    3.3 箔片云扩散特性模型第35-40页
    3.4 箔片云扩散特性第40-44页
    3.5 本章小结第44-46页
第四章 箔片云团散射特性研究第46-58页
    4.1 雷达散射截面第46-48页
    4.2 箔片干扰原理第48-49页
    4.3 箔片云团雷达散射特性第49-54页
    4.4 并行求解技术的应用第54-55页
    4.5 矩量法矩阵的Open MP并行求解算法第55-57页
    4.6 本章小结第57-58页
第五章 箔片云团RCS统计模型研究第58-68页
    5.1 RCS统计模型背景简介第58-59页
    5.2 统计模型第59-61页
    5.3 模型分析第61-62页
    5.4 箔片云团RCS统计特性研究第62-66页
    5.5 本章小结第66-68页
第六章 全文总结与展望第68-70页
    6.1 全文总结第68页
    6.2 后续展望第68-70页
参考文献第70-74页
致谢第74-76页
作者简介第76-77页

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