| 中文摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 前言 | 第12-15页 |
| 1.1.1 光合作用原理 | 第12-14页 |
| 1.1.2 半导体光催化反应类型 | 第14-15页 |
| 1.2 光催化水产氢产氧原理 | 第15-19页 |
| 1.2.1 光催化产氢产氧反应原理 | 第15-16页 |
| 1.2.2 光催化产氢产氧的过程 | 第16-19页 |
| 1.3 光催化分解水材料的研究进展 | 第19-25页 |
| 1.3.1 紫外光催化分解水材料的进展 | 第19-22页 |
| 1.3.2 可见光催化分解水材料的进展 | 第22-25页 |
| 1.4 本文研究思路及主要内容 | 第25-26页 |
| 第二章 N掺杂氧化铟的合成、性质及应用 | 第26-44页 |
| 2.1 引言 | 第26-27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-33页 |
| 2.2.1 试剂和仪器 | 第27-28页 |
| 2.2.2 前驱体及N掺杂氧化铟的制备 | 第28页 |
| 2.2.3 样品表征方法 | 第28-33页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第33-42页 |
| 2.3.1 TGA及XRD | 第33-35页 |
| 2.3.2 前驱体及N掺杂氧化铟的形貌 | 第35-38页 |
| 2.3.3 N掺杂氧化铟去碳前后的XPS和漫反射分析 | 第38-41页 |
| 2.3.4 N掺杂氧化铟去碳前后的光电流和产氧性能分析 | 第41-42页 |
| 2.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第三章 N、Co共掺杂氧化铟的合成、性质及应用 | 第44-62页 |
| 3.1 引言 | 第44-50页 |
| 3.1.1 试剂和仪器 | 第44-45页 |
| 3.1.2 前驱体及N、Co共掺杂氧化铟的制备 | 第45-46页 |
| 3.1.3 样品表征方法 | 第46-50页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第50-55页 |
| 3.2.1 不同浓度的Co掺入含N氧化铟的XRD分析 | 第50-52页 |
| 3.2.2 不同浓度Co掺入含N氧化铟的形貌分析 | 第52-55页 |
| 3.3 不同浓度Co掺入含N氧化铟的XPS、拉曼以及可见光漫反射分析 | 第55-60页 |
| 3.3.1 不同浓度Co掺入含N氧化铟的光电流及光催化产氧性能分析 | 第59-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 4.1 论文主要结论 | 第62-63页 |
| 4.2 论文创新点 | 第63页 |
| 4.3 论文工作展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文和参加科研情况 | 第74-75页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第75页 |
