激光全息光刻技术研究制作可见光波段禁带光子晶体
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 光子晶体的概念 | 第10-11页 |
| 1.2 光子晶体的参数 | 第11-13页 |
| 1.2.1 空间维度 | 第11-12页 |
| 1.2.2 对称性 | 第12页 |
| 1.2.3 折射率差 | 第12-13页 |
| 1.2.4 晶格常数 | 第13页 |
| 1.3 光子晶体的性质 | 第13-15页 |
| 1.3.1 光子禁带 | 第13-14页 |
| 1.3.2 抑制自发辐射 | 第14-15页 |
| 1.3.3 光子局域 | 第15页 |
| 1.4 光子晶体的应用 | 第15-17页 |
| 1.4.1 光子晶体微腔 | 第15-16页 |
| 1.4.2 光子晶体光纤 | 第16页 |
| 1.4.3 光子晶体波导 | 第16页 |
| 1.4.4 高效率发光二极管 | 第16-17页 |
| 1.4.5 宽带滤波器和极窄带选频滤波器 | 第17页 |
| 1.4.6 光子晶体偏振器 | 第17页 |
| 1.4.7 高性能反射镜 | 第17页 |
| 1.5 光子晶体制作研究 | 第17-22页 |
| 1.5.1 微球组装技术 | 第18-19页 |
| 1.5.2 基于平版印刷的制作技术 | 第19-22页 |
| 1.6 论文结构安排 | 第22-23页 |
| 2 全息干涉理论及模型 | 第23-29页 |
| 2.1 光学晶格 | 第23-24页 |
| 2.2 光学晶格与光路几何构型的关系 | 第24-25页 |
| 2.3 全息干涉模型 | 第25-28页 |
| 2.4 小结 | 第28-29页 |
| 3 全息干涉场光学晶格二维到三维的简捷空间变换 | 第29-45页 |
| 3.1 二维光学晶格模型 | 第29-34页 |
| 3.1.1 二维正方晶格 | 第29-31页 |
| 3.1.2 二维准周期晶格 | 第31-33页 |
| 3.1.3 小结 | 第33-34页 |
| 3.2 三维光学晶格模型 | 第34-41页 |
| 3.2.1 二维正六角晶格的三维变化 | 第34-36页 |
| 3.2.2 二维正方晶格的三维变换 | 第36-38页 |
| 3.2.3 二维准周期晶格的三维变化 | 第38-40页 |
| 3.2.4 小结 | 第40-41页 |
| 3.3 光束参数对光学晶格模型的影响 | 第41-44页 |
| 3.3.1 偏振对光学晶格模型的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.2 入射角度对光学晶格模型的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.3 曝光量对光学晶格模型的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.4 小结 | 第44页 |
| 3.4 小结 | 第44-45页 |
| 4 全息光刻技术实验制作可见光波段禁带光子晶体 | 第45-52页 |
| 4.1 激光全息实验设计 | 第45-49页 |
| 4.1.1 光源的选择 | 第45-46页 |
| 4.1.2 感光材料的选择 | 第46-47页 |
| 4.1.3 制作样品 | 第47-48页 |
| 4.1.4 实验光路 | 第48-49页 |
| 4.2 样品曝光及显影 | 第49-50页 |
| 4.2.1 曝光过程 | 第50页 |
| 4.2.2 曝光后处理及显影 | 第50页 |
| 4.3 小结 | 第50-52页 |
| 5 结果与分析 | 第52-57页 |
| 5.1 光子晶体结构 | 第52-53页 |
| 5.2 光子晶体的光子禁带测量与分析 | 第53-56页 |
| 5.3 层状光子晶体 | 第56页 |
| 5.4 小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 附录 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第67-68页 |
