锗单晶片的表面化学腐蚀研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-24页 |
·锗的发展及应用概况 | 第10-17页 |
·锗的历史及其战略地位 | 第10-11页 |
·锗单晶材料的生长 | 第11-13页 |
·锗单晶材料的应用 | 第13-15页 |
·锗单晶材料的发展现状 | 第15-17页 |
·半导体材料的化学腐蚀机理及应用 | 第17-19页 |
·半导体材料腐蚀机理 | 第18-19页 |
·电化学腐蚀在半导体技术中的应用 | 第19页 |
·锗单晶化学腐蚀技术的研究进展 | 第19-22页 |
·课题研究的意义与目的 | 第22-24页 |
第2章 锗单晶表面化学腐蚀规律初步探索 | 第24-35页 |
·正交试验介绍 | 第24-25页 |
·酸性腐蚀体系的正交试验 | 第25-30页 |
·酸性腐蚀体系正交试验及其设计 | 第26-27页 |
·酸性腐蚀体系正交试验的结果与分析 | 第27-30页 |
·碱性腐蚀体系的正交试验 | 第30-35页 |
·碱性腐蚀体系正交试验及其设计 | 第30-32页 |
·碱性腐蚀体系正交试验的结果与分析 | 第32-35页 |
第3章 锗单晶表面酸性化学腐蚀研究 | 第35-54页 |
·引言 | 第35页 |
·实验部分 | 第35-37页 |
·结果与讨论 | 第37-53页 |
·不同温度的锗片酸性化学腐蚀 | 第37-42页 |
·不同配比条件下的锗片酸性化学腐蚀 | 第42-47页 |
·超声条件下的锗片酸性化学腐蚀 | 第47-51页 |
·腐蚀机理探讨 | 第51-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
第4章 锗单晶表面碱性化学腐蚀研究 | 第54-73页 |
·引言 | 第54页 |
·实验部分 | 第54-56页 |
·结果与讨论 | 第56-72页 |
·不同温度的表面碱性化学腐蚀 | 第56-60页 |
·不同配比条件下的表面碱性化学腐蚀 | 第60-69页 |
·不同反应容器的表面碱性化学腐蚀 | 第69-70页 |
·腐蚀机理探讨 | 第70-72页 |
·本章小结 | 第72-73页 |
第5章 结论与展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第81页 |