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锗单晶片的表面化学腐蚀研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-24页
   ·锗的发展及应用概况第10-17页
     ·锗的历史及其战略地位第10-11页
     ·锗单晶材料的生长第11-13页
     ·锗单晶材料的应用第13-15页
     ·锗单晶材料的发展现状第15-17页
   ·半导体材料的化学腐蚀机理及应用第17-19页
     ·半导体材料腐蚀机理第18-19页
     ·电化学腐蚀在半导体技术中的应用第19页
   ·锗单晶化学腐蚀技术的研究进展第19-22页
   ·课题研究的意义与目的第22-24页
第2章 锗单晶表面化学腐蚀规律初步探索第24-35页
   ·正交试验介绍第24-25页
   ·酸性腐蚀体系的正交试验第25-30页
     ·酸性腐蚀体系正交试验及其设计第26-27页
     ·酸性腐蚀体系正交试验的结果与分析第27-30页
   ·碱性腐蚀体系的正交试验第30-35页
     ·碱性腐蚀体系正交试验及其设计第30-32页
     ·碱性腐蚀体系正交试验的结果与分析第32-35页
第3章 锗单晶表面酸性化学腐蚀研究第35-54页
   ·引言第35页
   ·实验部分第35-37页
   ·结果与讨论第37-53页
     ·不同温度的锗片酸性化学腐蚀第37-42页
     ·不同配比条件下的锗片酸性化学腐蚀第42-47页
     ·超声条件下的锗片酸性化学腐蚀第47-51页
     ·腐蚀机理探讨第51-53页
   ·本章小结第53-54页
第4章 锗单晶表面碱性化学腐蚀研究第54-73页
   ·引言第54页
   ·实验部分第54-56页
   ·结果与讨论第56-72页
     ·不同温度的表面碱性化学腐蚀第56-60页
     ·不同配比条件下的表面碱性化学腐蚀第60-69页
     ·不同反应容器的表面碱性化学腐蚀第69-70页
     ·腐蚀机理探讨第70-72页
   ·本章小结第72-73页
第5章 结论与展望第73-74页
参考文献第74-80页
致谢第80-81页
攻读学位期间的研究成果第81页

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