| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 多孔硅的概述 | 第9-10页 |
| 1.2 多孔硅的形成机制 | 第10-16页 |
| 1.3 多孔硅的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.3.1 化学腐蚀法 | 第16页 |
| 1.3.2 电化学腐蚀法 | 第16-17页 |
| 1.3.3 光化学腐蚀法 | 第17页 |
| 1.3.4 水热腐蚀法 | 第17页 |
| 1.3.5 预图案化腐蚀法 | 第17-18页 |
| 1.4 多孔硅的光致发光机制 | 第18-19页 |
| 1.4.1 量子限制模型 | 第18-19页 |
| 1.4.2 与氧有关的缺陷态发光模型 | 第19页 |
| 1.4.3 量子限制-发光中心模型 | 第19页 |
| 1.5 多孔硅的发光性能的改进 | 第19-21页 |
| 1.5.1 多孔硅与无机物复合 | 第19-20页 |
| 1.5.2 多孔硅的表面钝化 | 第20页 |
| 1.5.3 多孔硅的稀土掺杂 | 第20页 |
| 1.5.4 多孔硅与有机半导体复合 | 第20-21页 |
| 1.6 立体背景 | 第21-22页 |
| 2 多孔硅的制备及表面形貌表征 | 第22-36页 |
| 2.1 多孔硅的制备 | 第22-30页 |
| 2.1.1 实验试剂及实验装置原理图 | 第22-24页 |
| 2.1.2 化学刻蚀法制备多孔硅 | 第24-25页 |
| 2.1.3 用脉冲电源电化学制备多孔硅 | 第25-26页 |
| 2.1.4 制备可剥落的多孔硅 | 第26-28页 |
| 2.1.5 n型硅片的阳极氧化 | 第28页 |
| 2.1.6 测量多孔硅的孔隙率 | 第28-30页 |
| 2.2 多孔硅的表面形貌 | 第30-33页 |
| 2.2.1 海绵状形貌 | 第30-32页 |
| 2.2.2 硅纤维和硅孔 | 第32-33页 |
| 2.3 复合材料的制备 | 第33-36页 |
| 2.3.1 多孔硅/碘复合发光材料的制备 | 第33-35页 |
| 2.3.2 多孔硅/C_(60)复合发光材料的制备 | 第35页 |
| 2.3.3 多孔硅/PSⅡ复合发光材料的制备 | 第35-36页 |
| 3 多孔硅及其复合材料荧光表征 | 第36-47页 |
| 3.1 荧光的基本概念 | 第36-37页 |
| 3.1.1 荧光的定义 | 第36-37页 |
| 3.1.2 荧光寿命 | 第37页 |
| 3.2 荧光寿命和荧光光谱的测量工具 | 第37-39页 |
| 3.2.1 激光共聚焦显微镜 | 第37-38页 |
| 3.2.2 荧光寿命成像显微术(FLIM) | 第38-39页 |
| 3.3 荧光寿命的测量 | 第39-44页 |
| 3.3.1 多孔硅的荧光寿命 | 第39页 |
| 3.3.2 多孔硅/I_2复合发光材料的荧光寿命 | 第39-41页 |
| 3.3.3 多孔硅/C_(60)复合发光材料的荧光寿命 | 第41-42页 |
| 3.3.4 多孔硅/PSⅡ复合发光材料的荧光寿命 | 第42-44页 |
| 3.4 荧光光谱 | 第44-47页 |
| 3.4.1 多孔硅的荧光光谱 | 第44页 |
| 3.4.2 多孔硅复合发光材料的荧光光谱 | 第44-47页 |
| 4 多孔硅表面喷涂保护层 | 第47-49页 |
| 4.1 多孔硅表面喷涂一薄层聚丙烯酸树脂 | 第47-48页 |
| 4.2 多孔硅片涂上有机玻璃 | 第48-49页 |
| 附录A 电解池图纸 | 第49-50页 |
| 附录B SEM方法测量平均孔径和孔隙率 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |