| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-34页 |
| 1.1 磁记录概述 | 第12-16页 |
| 1.1.1 磁记录的发展 | 第12-14页 |
| 1.1.2 硬盘磁记录的原理 | 第14-16页 |
| 1.2 磁记录介质的发展 | 第16-23页 |
| 1.2.1 水平记录介质 | 第17-19页 |
| 1.2.2 垂直记录介质 | 第19-23页 |
| 1.3 超高密度磁记录对介质的要求 | 第23-31页 |
| 1.3.1 热稳定性的要求 | 第23-24页 |
| 1.3.2 微观组织的要求 | 第24-31页 |
| 1.4 本文的研究意义及主要内容 | 第31-34页 |
| 第二章 薄膜的制备和表征 | 第34-40页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第34-36页 |
| 2.1.1 磁控溅射的原理 | 第35页 |
| 2.1.2 本文制备薄膜所使用的设备 | 第35-36页 |
| 2.2 薄膜的表征 | 第36-40页 |
| 第三章 Co-W(Mo)磁记录薄膜的设计、制备及磁性能 | 第40-62页 |
| 3.1 Co-X(X=Cr,Mo,W)非晶形成能力的研究 | 第40-47页 |
| 3.1.1 热力学计算与实验结果 | 第41-44页 |
| 3.1.2 结果分析与讨论 | 第44-47页 |
| 3.2 Co-Mo薄膜与Co-Mo-X薄膜的磁性能 | 第47-53页 |
| 3.2.1 Co-Mo薄膜的结构与磁性能 | 第48-50页 |
| 3.2.2 Co-Mo-X薄膜的磁性能 | 第50-53页 |
| 3.3 下底层/磁性层应变对有效磁晶各向异性能的影响 | 第53-60页 |
| 3.3.1 薄膜厚度与应变的关系 | 第54-59页 |
| 3.3.2 应变与有效磁晶各向异性常数的关系 | 第59-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第四章 下底层对Co-Pt薄膜垂直取向及磁性能的影响 | 第62-92页 |
| 4.1 Co-Pt单层膜的研究 | 第62-69页 |
| 4.1.1 Pt含量对薄膜取向和磁性能的影响 | 第63-67页 |
| 4.1.2 厚度对薄膜取向和磁性能的影响 | 第67-69页 |
| 4.2 Ti下底层对Co-Pt薄膜垂直性能的影响 | 第69-78页 |
| 4.2.1 基板温度对Co-Pt薄膜取向的影响 | 第70-71页 |
| 4.2.2 Ti下底层厚度对Co-Pt薄膜取向的影响 | 第71-72页 |
| 4.2.3 下底层与磁性层错配关系对薄膜取向和磁性能的影响 | 第72-75页 |
| 4.2.4 下底层晶粒尺寸对薄膜的影响 | 第75-78页 |
| 4.3 Ru下底层对Co-Pt薄膜垂直性能的影响 | 第78-89页 |
| 4.3.1 引导层Ta对Co-Pt薄膜取向及磁性能的影响 | 第78-85页 |
| 4.3.2 Ru下底层厚度对薄膜取向及磁性能的影响 | 第85-89页 |
| 4.4 本章小结 | 第89-92页 |
| 第五章 沉积工艺对Co-Pt薄膜垂直生长取向及磁性能的影响 | 第92-108页 |
| 5.1 气压对Co-Pt磁性层垂直生长取向及磁性能的影响 | 第92-96页 |
| 5.2 薄膜厚度对磁性层垂直生长取向及磁性能的影响 | 第96-100页 |
| 5.3 氧化物对Co-Pt磁性层磁性能的影响 | 第100-107页 |
| 5.3.1 氧化物含量对Co-Pt磁性层磁性能的影响 | 第101-104页 |
| 5.3.2 退火对Co-Pt磁性层磁性能的影响 | 第104-107页 |
| 5.4 本章小结 | 第107-108页 |
| 第六章 结论 | 第108-110页 |
| 附录 | 第110-116页 |
| 参考文献 | 第116-132页 |
| 致谢 | 第132-134页 |
| 攻读博士学位期间发表的文章 | 第134-135页 |
