| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 课题研究的目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 课题研究的背景与现状 | 第11-17页 |
| 1.3 课题研究的内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验设备及原理 | 第18-22页 |
| 2.1 磁控溅射镀膜的基本原理 | 第18-19页 |
| 2.2 设备的组成与功能 | 第19-22页 |
| 2.2.1 真空抽气系统 | 第19-20页 |
| 2.2.2 溅射镀膜室 | 第20-21页 |
| 2.2.3 镀膜机的工作过程 | 第21-22页 |
| 第3章 磁控靶磁场的模拟优化 | 第22-50页 |
| 3.1 磁场强度设计原则 | 第22-23页 |
| 3.2 ANSYS软件求解磁场 | 第23-25页 |
| 3.3 ANSYS参数化设计语言 | 第25-29页 |
| 3.3.1 ANSYS的优化方法及相关概念 | 第25-27页 |
| 3.3.2 ANSYS优化的基本原理 | 第27-29页 |
| 3.4 圆平面磁控溅射靶的一次优化设计 | 第29-37页 |
| 3.4.1 圆平面磁控靶的设计 | 第29-30页 |
| 3.4.2 物理模型的建立 | 第30-31页 |
| 3.4.3 靶磁场的模拟 | 第31-32页 |
| 3.4.4 磁场优化 | 第32-36页 |
| 3.4.5 加导磁片的优化设计 | 第36-37页 |
| 3.5 圆形磁控溅射靶的二次优化设计 | 第37-40页 |
| 3.5.1 靶模型的建立与优化设计 | 第37-38页 |
| 3.5.2 优化结果及分析 | 第38-40页 |
| 3.6 圆形磁控溅射靶的最终优化设计 | 第40-47页 |
| 3.6.1 圆平面磁控靶的设计及建模 | 第40-41页 |
| 3.6.2 靶磁场的模拟及优化 | 第41-46页 |
| 3.6.3 优化结果及分析 | 第46-47页 |
| 3.7 本章小结 | 第47-50页 |
| 第4章 靶的测试与刻蚀 | 第50-60页 |
| 4.1 靶空间磁场的测量 | 第50-54页 |
| 4.1.1 实验仪器及方法 | 第50-52页 |
| 4.1.2 实验结论及分析 | 第52-54页 |
| 4.2 靶材的刻蚀 | 第54-59页 |
| 4.2.1 刻蚀过程及测量 | 第55-56页 |
| 4.2.2 靶材利用率的计算及分析 | 第56-58页 |
| 4.2.3 靶材刻蚀的对比实验 | 第58-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 靶冷却系统的模拟优化 | 第60-78页 |
| 5.1 FLUENT软件 | 第60-66页 |
| 5.1.1 Fluent软件的应用概况及发展 | 第61-63页 |
| 5.1.2 Fluent主要结构及求解问题的步骤和方法 | 第63-66页 |
| 5.2 圆平面磁控靶冷却系统的模拟分析 | 第66-70页 |
| 5.2.1 靶模型的建立 | 第66-67页 |
| 5.2.2 冷却模拟 | 第67-70页 |
| 5.2.3 理论计算与实验测试 | 第70页 |
| 5.3 水冷系统的优化设计 | 第70-75页 |
| 5.3.1 进水管参数对冷却效果的影响 | 第71-73页 |
| 5.3.2 出水管参数对冷却效果的影响 | 第73-75页 |
| 5.4 结论与分析 | 第75-77页 |
| 5.5 本章小结 | 第77-78页 |
| 第6章 结论与展望 | 第78-80页 |
| 6.1 主要研究结论 | 第78-79页 |
| 6.2 前景展望 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第85页 |