第一章 前言 | 第9-26页 |
1.1 自由基反应 | 第9-15页 |
1.2 反应势能面的理论基础 | 第15-19页 |
参考文献 | 第19-26页 |
第二章 理论基础和计算方法 | 第26-48页 |
2.1 引言 | 第26-27页 |
2.2 分子轨道理论 | 第27-30页 |
2.2.1 闭壳层分子的HFR 方程 | 第27-29页 |
2.2.2 开壳层分子的HFR 方程 | 第29-30页 |
2.3 电子相关问题 | 第30-37页 |
2.3.1 电子相关能 | 第30-31页 |
2.3.2 组态相互作用 | 第31-33页 |
2.3.3 耦合簇方法 | 第33-34页 |
2.3.4 微扰理论方法 | 第34-37页 |
2.4 密度泛函理论 | 第37-39页 |
2.5 基组的选择 | 第39-40页 |
2.6 振动频率的计算 | 第40-42页 |
2.7 内禀反应坐标理论 | 第42-44页 |
2.8 势能面上临界点的几何性质 | 第44-46页 |
参考文献 | 第46-48页 |
第三章 自由基C_2H 与O_2反应机理的特征为加成—离解过程 | 第48-69页 |
3.1 引言 | 第48-49页 |
3.2 C_2H+O_2 反应势能面的理论研究 | 第49-67页 |
3.2.1 计算方法 | 第49页 |
3.2.2 结果与讨论 | 第49-66页 |
3.2.3 结论 | 第66-67页 |
3.3 本章小结 | 第67页 |
参考文献 | 第67-69页 |
第四章 自由基HO_2与NO_2反应机理涉及加成—异构化过程和一步夺氢过程 | 第69-86页 |
4.1 引言 | 第69-70页 |
4.2 HO_2+NO_2 反应势能面的理论研究 | 第70-83页 |
4.2.1 计算方法 | 第70页 |
4.2.2 结果与讨论 | 第70-83页 |
4.2.3 结论 | 第83页 |
4.3 本章小结 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-86页 |
第五章 自由基HO_2与C_2H2和C_2H 反应分别对应加成—异构化过程和加成—消除过程 | 第86-124页 |
5.1 引言 | 第86-87页 |
5.2 HO_2+C_2H_2 反应势能面的理论研究 | 第87-106页 |
5.2.1 计算方法 | 第87页 |
5.2.2 结果与讨论 | 第87-106页 |
5.2.3 结论 | 第106页 |
5.3 HO_2+C_2H 反应势能面的理论研究 | 第106-122页 |
5.3.1 计算方法 | 第106-107页 |
5.3.2 结果与讨论 | 第107-121页 |
5.3.3 结论 | 第121-122页 |
5.4 本章小结 | 第122-123页 |
参考文献 | 第123-124页 |
第六章 自由基CS 与O_2和NO 反应分别对应加成—异构化过程和加成—消除过程 | 第124-146页 |
6.1 引言 | 第124-125页 |
6.2 CS+O_2 反应势能面的理论研究 | 第125-135页 |
6.2.1 计算方法 | 第125页 |
6.2.2 结果与讨论 | 第125-134页 |
6.2.3 结论 | 第134-135页 |
6.3 CS+NO 反应势能面的理论研究 | 第135-144页 |
6.3.1 计算方法 | 第135页 |
6.3.2 结果与讨论 | 第135-144页 |
6.3.3 结论 | 第144页 |
6.4 本章小结 | 第144-145页 |
参考文献 | 第145-146页 |
第七章 自由基~3CH_2 与 SO 反应机理的特征为加成—消除过程 | 第146-165页 |
7.1 引言 | 第146页 |
7.2 ~3CH_2 + SO 反应势能面的理论研究 | 第146-163页 |
7.2.1 计算方法 | 第146-147页 |
7.2.2 结果与讨论 | 第147-162页 |
7.2.3 结论 | 第162-163页 |
7.3 本章小结 | 第163页 |
参考文献 | 第163-165页 |
论文摘要 | 第165-173页 |
博士期间发表及完成的论文 | 第173-174页 |
致谢 | 第174-175页 |
吉林大学博士学位论文原创性声明 | 第175页 |