摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-27页 |
1.1 半导体光催化技术的机理 | 第12-13页 |
1.2 半导体光催化剂的应用 | 第13-16页 |
1.2.1 半导体光催化剂制备新能源 | 第13-15页 |
1.2.2 半导体光催化剂降解水中的污染物 | 第15页 |
1.2.3 半导体催化剂净化空气 | 第15-16页 |
1.3 半导体光催化剂的可见光响应改性 | 第16-19页 |
1.3.1 掺杂改性 | 第16-17页 |
1.3.2 光敏化改性 | 第17-18页 |
1.3.3 复合改性 | 第18-19页 |
1.4 磷酸银光催化剂 | 第19-21页 |
1.5 磷酸银光催化剂的研究 | 第21-23页 |
1.6 3 DOM材料的研究现状 | 第23-24页 |
1.7 本论文的选题依据和主要研究内容 | 第24-27页 |
1.7.1 选题依据 | 第24-25页 |
1.7.2 主要研究内容 | 第25-27页 |
第二章 少层MoS_2/Ag_3PO_4光催化剂的制备及其性能研究 | 第27-43页 |
2.1 前言 | 第27-28页 |
2.2 实验部分 | 第28-30页 |
2.2.1 实验试剂和仪器 | 第28-29页 |
2.2.2 光催化剂的制备 | 第29页 |
2.2.3 光催化剂的活性实验 | 第29-30页 |
2.3 结果与讨论 | 第30-42页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第30-31页 |
2.3.2 透射电镜(TEM)分析 | 第31-32页 |
2.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第32-35页 |
2.3.4 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第35-36页 |
2.3.5 光电流分析 | 第36-37页 |
2.3.6 光催化活性实验 | 第37-39页 |
2.3.7 光催化剂的稳定性实验 | 第39-40页 |
2.3.8 光催化机理 | 第40-42页 |
2.4 本章小结 | 第42-43页 |
第三章 CeO_2/Ag_3PO_4光催化剂的制备及其性能研究 | 第43-61页 |
3.1 前言 | 第43-44页 |
3.2 实验部分 | 第44-46页 |
3.2.1 实验试剂和仪器 | 第44-45页 |
3.2.2 光催化剂的制备 | 第45-46页 |
3.2.3 光催化剂的活性实验 | 第46页 |
3.3 结果与讨论 | 第46-60页 |
3.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第46-47页 |
3.3.2 透射电镜(TEM)分析 | 第47-48页 |
3.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第48-51页 |
3.3.4 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第51页 |
3.3.5 傅里叶红外(FT-IR)分析 | 第51-52页 |
3.3.6 光电流分析 | 第52-53页 |
3.3.7 光催化活性实验 | 第53-56页 |
3.3.8 光催化剂的稳定性实验 | 第56-57页 |
3.3.9 光催化机理 | 第57-60页 |
3.4 本章小结 | 第60-61页 |
第四章 3 DOM WO_3/Ag_3PO_4光催化剂的制备及其性能研究 | 第61-78页 |
4.1 前言 | 第61页 |
4.2 实验部分 | 第61-63页 |
4.2.1 实验试剂和仪器 | 第61-62页 |
4.2.2 光催化剂的制备 | 第62-63页 |
4.2.3 光催化剂的活性实验 | 第63页 |
4.3 结果与讨论 | 第63-76页 |
4.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第63-64页 |
4.3.2 光催化剂的形貌和表面积 | 第64-67页 |
4.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第67-69页 |
4.3.4 紫外-可见漫反射光谱(DRS)分析 | 第69-70页 |
4.3.5 傅里叶红外(FT-IR)分析 | 第70-71页 |
4.3.6 光催化活性实验 | 第71-72页 |
4.3.7 光电流分析 | 第72-73页 |
4.3.8 光催化剂的稳定性实验 | 第73-75页 |
4.3.9 光催化机理 | 第75-76页 |
4.4 本章小结 | 第76-78页 |
第五章 结论与展望 | 第78-80页 |
5.1 结论 | 第78-79页 |
5.2 展望 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-90页 |
硕士期间发表的论文 | 第90-91页 |
致谢 | 第91页 |