| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 压敏电阻简介 | 第10页 |
| 1.2 压敏电阻的电学性能分析 | 第10-14页 |
| 1.2.1 非线性电学分析 | 第12-13页 |
| 1.2.2 压敏电压 | 第13-14页 |
| 1.2.3 漏电流 | 第14页 |
| 1.3 氧化物压敏电阻 | 第14-16页 |
| 1.3.1 ZnO基压敏电阻 | 第14-15页 |
| 1.3.2 SnO_2基压敏电阻 | 第15页 |
| 1.3.3 TiO_2基压敏电阻 | 第15-16页 |
| 1.4 氧化物薄膜压敏电阻 | 第16-21页 |
| 1.4.1 薄膜压敏电阻的产生 | 第16-18页 |
| 1.4.2 薄膜压敏电阻的发展 | 第18-20页 |
| 1.4.3 TiO_2薄膜压敏特性研究现状 | 第20-21页 |
| 1.5 本论文研究内容及课题意义 | 第21-24页 |
| 第2章 实验方案 | 第24-30页 |
| 2.1 镀膜系统 | 第24页 |
| 2.2 实验材料及设备 | 第24-25页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第24-25页 |
| 2.2.2 样品制备过程中所用到的设备 | 第25页 |
| 2.3 镀膜工艺 | 第25-28页 |
| 2.4 薄膜表征 | 第28-30页 |
| 2.4.1 微观形貌 | 第28页 |
| 2.4.2 结构和成分分析 | 第28页 |
| 2.4.3 电学性能分析 | 第28-30页 |
| 第3章 缺氧型单层氧化钛薄膜的电学性能 | 第30-41页 |
| 3.1 衬底温度对氧化钛薄膜的影响 | 第30-33页 |
| 3.1.1 衬底温度对材料相组成的影响 | 第30-31页 |
| 3.1.2 衬底温度对材料微观结构的影响 | 第31-32页 |
| 3.1.3 衬底温度对材料电学性能的影响 | 第32-33页 |
| 3.2 溅射功率对单层薄膜的影响 | 第33-35页 |
| 3.2.1 溅射功率对单层薄膜的组成成分的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.2 溅射功率对单层薄膜表面形貌的影响 | 第34页 |
| 3.2.3 溅射功率对单层薄膜的电学性能的影响 | 第34-35页 |
| 3.3 氧分压对单层薄膜的影响 | 第35-37页 |
| 3.3.1 氧分压对于单层薄膜组成成分的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.2 氧分压对于单层薄膜电学性能的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 退火温度对单层TiO_x薄膜电学性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.5 退火温度对单层TiO_y薄膜电学性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 三明治结构多层氧化钛薄膜的电学性能研究 | 第41-49页 |
| 4.1 多层薄膜的相组成研究 | 第41-43页 |
| 4.2 多层薄膜的电学性能的研究 | 第43-44页 |
| 4.3 压敏特性来源 | 第44-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 三明治结构多层氧化钛薄膜压敏电阻的改性研究 | 第49-55页 |
| 5.1 退火温度对于多层薄膜压敏特性的影响 | 第49-50页 |
| 5.2 中间层溅射功率对于复合薄膜压敏特性的影响 | 第50-54页 |
| 5.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第6章 结论 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 个人简历 | 第64-65页 |
| 在学期间研究成果 | 第65页 |
