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多铁性纳米材料的忆阻效应及其存储应用研究

摘要第7-10页
ABSTRACT第10-12页
第一章 绪论第13-45页
    1.1 引言第13-14页
    1.2 忆阻随机存储器(RRAM)第14-22页
        1.2.1 忆阻器的简介第14-16页
        1.2.2 忆阻器的分类第16-22页
    1.3 忆阻器的存储机制第22-29页
        1.3.1 导电细丝(Conductive filament)理论第23-25页
        1.3.2 热化学反应机制第25-27页
        1.3.3 与界面相关的阻变机制第27-28页
        1.3.4 极化反转机制第28-29页
    1.4 国内外忆阻器的研究进展第29-42页
        1.4.1 忆阻器的发展概况第29-30页
        1.4.2 忆阻(M)变量的推导第30-31页
        1.4.3 一些重要发现第31-35页
        1.4.4 光控忆阻器的发现第35-36页
        1.4.5 生物忆阻器的发展与应用第36-42页
    1.5 目前研究与应用的挑战第42页
    1.6 立题的研究意义和内容第42-45页
        1.6.1 研究的意义第42-43页
        1.6.2 研究的内容第43-45页
第二章 忆阻器件的制备和电学性能表征第45-55页
    2.1 金属氧化物纳米结构的制备第45-48页
        2.1.1 水热合成法第45-47页
        2.1.2 溅射法第47页
        2.1.3 溶胶-凝胶法第47-48页
    2.2 材料的多铁性测试第48-50页
        2.2.1 材料的磁性测试第48-49页
        2.2.2 材料的铁电性测试第49-50页
    2.3 器件的电极制备第50-51页
    2.4 器件的电学性能测试第51-55页
        2.4.1 Keithley 2400直流源表第51页
        2.4.2 电化学工作站第51-52页
        2.4.3 探针测试台第52-55页
第三章 多铁性的MnWO_4纳米线的忆阻效应第55-69页
    3.1 引言第55-57页
    3.2 实验过程第57-58页
        3.2.1 材料的制备第57页
        3.2.2 材料的表征第57页
        3.2.3 器件的电极制备和测试第57-58页
    3.3 结果讨论和机理分析第58-67页
        3.3.1 材料的表征结果第58-60页
        3.3.2 器件的表征结果第60-64页
        3.3.3 忆阻效应的机理分析第64-67页
    3.4 本章小结第67-69页
第四章 多铁性的FeWO_4纳米线阵列的忆阻效应第69-77页
    4.1 引言第69-70页
    4.2 实验部分第70-71页
        4.2.1 FeWO_4纳米线阵列的制备第70页
        4.2.2 材料的表征第70-71页
        4.2.3 器件电极的制备和测试第71页
    4.3 结果分析和机理讨论第71-76页
        4.3.1 材料的表征结果第71-73页
        4.3.2 器件的测试第73-74页
        4.3.3 忆阻效应的机理分析第74-76页
    4.4 本章小结第76-77页
第五章 多铁性的BiMnO_3纳米线阵列的光控忆阻效应第77-89页
    5.1 引言第77-79页
    5.2 实验过程第79-80页
        5.2.1 材料的制备第79页
        5.2.2 材料的表征第79页
        5.2.3 忆阻器件的记忆特性测试第79-80页
    5.3 实验结果与存储机理分析第80-88页
        5.3.1 材料的表征结果第80-82页
        5.3.2 材料的多铁性测试第82-84页
        5.3.3 器件的表征第84-87页
        5.3.4 忆阻效应的机理讨论第87-88页
    5.4 本章小结第88-89页
第六章 光-电同步控制的BiFeO_3膜的忆阻效应与铁电存储及其柔性高性能多态记忆器件第89-105页
    6.1 引言第89-90页
    6.2 实验过程第90-92页
        6.2.1 器件的制备第90-91页
        6.2.2 材料的表征第91-92页
        6.2.3 器件的性能测试第92页
    6.3 实验数据讨论与开关机理分析第92-103页
        6.3.1 材料的表征结果第92-93页
        6.3.2 器件的性能表征第93-101页
        6.3.3 忆阻效应的机理讨论第101-103页
    6.4 本章小结第103-105页
第七章 结论和展望第105-109页
    7.1 主要结论第105页
    7.2 今后的工作展望第105-109页
参考文献第109-135页
硕博连读期间所取得的部分成果和荣誉第135-139页
致谢第139-140页

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