摘要 | 第5-10页 |
ABSTRACT | 第10-16页 |
第一章 绪论 | 第29-51页 |
1.1 有机电致发光 | 第30-34页 |
1.1.1 有机电致发光的历史与现状 | 第30-32页 |
1.1.2 有机电致发光的基本过程 | 第32页 |
1.1.3 有机电致发光的基本性能参数 | 第32-34页 |
1.2 有机电致磷光 | 第34-37页 |
1.2.1 电致磷光发光原理与机制 | 第34-36页 |
1.2.2 蓝色磷光铱配合物 | 第36-37页 |
1.2.3 电致磷光器件主客体设计 | 第37页 |
1.3 有机硅蓝色磷光主体材料研究进展 | 第37-49页 |
1.3.1 蓝色磷光主体材料要求 | 第37-39页 |
1.3.2 前线轨道和三重态能测定 | 第39页 |
1.3.3 芳基硅烷主体材料 | 第39-47页 |
1.3.4 笼型倍半硅氧烷(POSS)基主体材料 | 第47-49页 |
1.4 本论文设计思想及主要内容 | 第49-51页 |
第二章 咔唑基聚硅氧烷主体材料的合成与性能 | 第51-75页 |
2.1 引言 | 第51-52页 |
2.2 实验部分 | 第52-64页 |
2.2.1 试剂处理与仪器表征 | 第52-53页 |
2.2.2 化合物合成 | 第53-63页 |
2.2.3 电致发光器件制备及性能表征 | 第63-64页 |
2.3 结果与讨论 | 第64-73页 |
2.3.1 聚合物的设计与合成 | 第64-65页 |
2.3.2 热性质分析 | 第65-66页 |
2.3.3 电化学性质分析 | 第66页 |
2.3.4 薄膜表面形貌分析 | 第66-67页 |
2.3.5 光物理性质分析 | 第67-69页 |
2.3.6 电致发光性质分析 | 第69-72页 |
2.3.7 薄膜力学性质分析 | 第72-73页 |
2.4 本章小结 | 第73-75页 |
第三章 三苯胺基聚硅氧烷主体材料的合成与性能 | 第75-89页 |
3.1 引言 | 第75页 |
3.2 实验部分 | 第75-81页 |
3.2.1 试剂处理与仪器表征 | 第75-76页 |
3.2.2 化合物合成 | 第76-79页 |
3.2.3 电致发光器件制备及性能表征 | 第79-80页 |
3.2.4 TTA和TPA理论模型 | 第80-81页 |
3.3 结果与讨论 | 第81-88页 |
3.3.1 聚合物的设计与合成 | 第81-82页 |
3.3.2 热性质分析 | 第82-83页 |
3.3.3 电化学性质分析 | 第83页 |
3.3.4 薄膜表面形貌分析 | 第83-84页 |
3.3.5 光物理性质分析 | 第84-85页 |
3.3.6 电致发光性质分析 | 第85-87页 |
3.3.7 效率滚降机理分析 | 第87-88页 |
3.4 本章小结 | 第88-89页 |
第四章 聚(苯基咔唑-alt-三苯基膦氧)硅氧烷双极子主体材料的合成与性能 | 第89-107页 |
4.1 引言 | 第89-90页 |
4.2 实验部分 | 第90-97页 |
4.2.1 试剂处理与仪器表征 | 第90-91页 |
4.2.2 化合物合成 | 第91-95页 |
4.2.3 电致发光器件制备及性能表征 | 第95-96页 |
4.2.4 TTA和TPA理论模型 | 第96-97页 |
4.3 结果与讨论 | 第97-105页 |
4.3.1 聚合物的设计与合成 | 第97-99页 |
4.3.2 热性质分析 | 第99-100页 |
4.3.3 电化学性质分析 | 第100页 |
4.3.4 光物理性质分析 | 第100-101页 |
4.3.5 分子模拟 | 第101-102页 |
4.3.6 电致发光性质分析 | 第102-104页 |
4.3.7 薄膜力学性质分析 | 第104-105页 |
4.4 本章小结 | 第105-107页 |
第五章 以1,3-二咔唑基苯(mCP)为侧基的聚硅氧烷合成与器件性能 | 第107-141页 |
5.1 引言 | 第107-108页 |
5.2 实验部分 | 第108-122页 |
5.2.1 试剂处理与仪器表征 | 第108-109页 |
5.2.2 化合物合成 | 第109-121页 |
5.2.3 电致发光器件制备及性能表征 | 第121-122页 |
5.3 结果与讨论 | 第122-140页 |
5.3.1 聚合物的设计与合成 | 第122-123页 |
5.3.2 热性质分析 | 第123-124页 |
5.3.3 电化学性质分析 | 第124-125页 |
5.3.4 成膜及相容性分析 | 第125-127页 |
5.3.5 光物理性质分析 | 第127-129页 |
5.3.6 激子限制能力分析 | 第129-130页 |
5.3.7 分子模拟 | 第130-132页 |
5.3.8 PDCzMSi-Flrpic器件电致发光性质分析 | 第132-134页 |
5.3.9 PDCzMSi记忆器件性质分析 | 第134-136页 |
5.3.10 PmCPSi-Flrpic器件电致发光性质分析 | 第136-140页 |
5.4 本章小结 | 第140-141页 |
第六章 聚苯硅烷双极型主体材料的合成与性能 | 第141-163页 |
6.1 引言 | 第141-142页 |
6.2 实验部分 | 第142-150页 |
6.2.1 试剂处理与仪器表征 | 第142-143页 |
6.2.2 化合物合成 | 第143-149页 |
6.2.3 电致发光器件制备及性能表征 | 第149-150页 |
6.3 结果与讨论 | 第150-162页 |
6.3.1 聚合物的设计与合成 | 第150-151页 |
6.3.2 热性质分析 | 第151-152页 |
6.3.3 形貌及相容性分析 | 第152-153页 |
6.3.4 电化学性质分析 | 第153页 |
6.3.5 光物理性质分析 | 第153-155页 |
6.3.6 分子模拟 | 第155-156页 |
6.3.7 电致发光性质分析 | 第156-161页 |
6.3.8 激子限制能力分析 | 第161-162页 |
6.4 本章小结 | 第162-163页 |
第七章 星形多咔唑四苯基硅主体材料的合成与性能 | 第163-183页 |
7.1 引言 | 第163-164页 |
7.2 实验部分 | 第164-170页 |
7.2.1 试剂处理与仪器表征 | 第164页 |
7.2.2 化合物合成 | 第164-169页 |
7.2.3 电致发光器件制备及性能表征 | 第169-170页 |
7.3 结果与讨论 | 第170-182页 |
7.3.1 主体材料的设计与合成 | 第170-171页 |
7.3.2 热性质分析 | 第171-172页 |
7.3.3 形貌及相容性分析 | 第172-173页 |
7.3.4 电化学性质分析 | 第173-174页 |
7.3.5 光物理性质分析 | 第174-176页 |
7.3.6 分子模拟 | 第176-177页 |
7.3.7 重组能及双极特性分析 | 第177-178页 |
7.3.8 激子限制分析 | 第178-179页 |
7.3.9 电致发光性质分析 | 第179-182页 |
7.4 本章小结 | 第182-183页 |
第八章 咔唑基有机硅自主体材料的合成设计 | 第183-209页 |
8.1 引言 | 第183-184页 |
8.2 实验部分 | 第184-199页 |
8.2.1 试剂处理与仪器表征 | 第184页 |
8.2.2 化合物合成 | 第184-199页 |
8.3 结果与讨论 | 第199-207页 |
8.3.1 自主体材料的设计与合成 | 第199-203页 |
8.3.2 自主体几何优化 | 第203-205页 |
8.3.3 配体几何优化与前线轨道分析 | 第205-207页 |
8.4 本章小结 | 第207-209页 |
第九章 四苯基硅主体材料的量化表征及对比分析 | 第209-229页 |
9.1 引言 | 第209页 |
9.2 计算方法 | 第209-210页 |
9.3 双极四苯基硅主体材料 | 第210-214页 |
9.3.1 几何优化及前线分子轨道 | 第210-213页 |
9.3.2 三重态能级 | 第213-214页 |
9.4 对称咔唑-四苯基硅主体材料 | 第214-218页 |
9.4.1 几何优化及前线分子轨道 | 第214-217页 |
9.4.2 三重态能级 | 第217-218页 |
9.5 非对称咔唑-四苯基硅主体材料 | 第218-222页 |
9.5.1 几何优化及前线分子轨道 | 第218-221页 |
9.5.2 三重态能级 | 第221-222页 |
9.6 对称与非对称结构对比分析 | 第222-226页 |
9.6.1 几何优化及前线分子轨道 | 第222-225页 |
9.6.2 三重态能级 | 第225-226页 |
9.7 主客体三重态能匹配 | 第226-227页 |
9.8 本章小结 | 第227-229页 |
第十章 结论与创新点 | 第229-233页 |
10.1 论文结论 | 第229-230页 |
10.2 论文主要创新点 | 第230-233页 |
参考文献 | 第233-245页 |
致谢 | 第245-247页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第247-251页 |
作者简介 | 第251页 |
导师简介 | 第251-252页 |
附件 | 第252-253页 |