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掺杂ZnO透明导电薄膜的光电性能与导电机理研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第12-28页
    1.1 透明导电薄膜概述第12-15页
    1.2 ZnO薄膜的结构与性质第15-20页
    1.3 ZnO薄膜研究现状与发展趋势第20-27页
    1.4 本文的研究工作第27-28页
第二章 ZnO基透明导电薄膜的制备与工艺优化第28-48页
    2.1 磁控溅射法制备ZnO薄膜工艺流程第28-30页
    2.2 ZnO薄膜的微观结构与光电性能表征第30-34页
    2.3 工艺参数对薄膜结构与光电性能的影响第34-47页
    2.4 本章小结第47-48页
第三章 ZnO薄膜表面界面特性与结构优化设计第48-77页
    3.1 薄膜退火、O化学态与光电性能的关联第48-56页
    3.2 薄膜厚度、界面状态与光电性能的关联第56-62页
    3.3 湿热环境下ZnO薄膜电学性能退化机理第62-71页
    3.4 ZnO薄膜结构的表面改性研究第71-75页
    3.5 本章小结第75-77页
第四章 ZnO薄膜的掺杂改性研究第77-91页
    4.1 Al的掺杂浓度对于薄膜的光电性能的影响第77-82页
    4.2 H钝化Al掺杂对ZnO薄膜光电性能的影响第82-85页
    4.3 In、Ga共掺对薄膜微结构与光电性能的影响第85-89页
    4.4 本章小结第89-91页
第五章 ZnO薄膜的电子传输机理研究第91-107页
    5.1 ZnO基透明导电薄膜的电子散射机制第91-95页
    5.2 ZnO基透明导电薄膜变温条件下的电学性能第95-98页
    5.3 ZnO基透明导电薄膜的电子传输机制分析第98-106页
    5.4 本章小结第106-107页
第六章 总结与展望第107-110页
参考文献第110-124页
攻读学位期间发表的学术论文第124-125页
致谢第125页

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