| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| ·负温度系数热敏电阻（NTCR）简介 | 第8-9页 |
| ·温度传感器简介 | 第8页 |
| ·负温度系数热敏电阻发展历史 | 第8-9页 |
| ·Mn-Co-Ni-O系尖晶石氧化物简介 | 第9-13页 |
| ·Mn-Co-Ni-O系尖晶石氧化物特点 | 第9-11页 |
| ·Mn-Co-Ni-O系尖晶石氧化物导电机制 | 第11-13页 |
| ·Mn-Co-Ni-O系薄膜简介 | 第13-19页 |
| ·Mn-Co-Ni-O系薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·Mn-Co-Ni-O系薄膜国内外动态及发展趋势 | 第16-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 磁控溅射制备Mn-Co-Ni-O薄膜及物相表征 | 第23-47页 |
| ·磁控溅射制备Mn-Co-Ni-O薄膜 | 第23-27页 |
| ·磁控溅射靶材的制备 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射衬底的选择 | 第25-26页 |
| ·Mn-Co-Ni-O薄膜的射频磁控溅射制备 | 第26-27页 |
| ·Mn-Co-Ni-O薄膜的物相表征 | 第27-45页 |
| ·X射线衍射谱（XRD） | 第28-30页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第30-33页 |
| ·场发射式扫描式电子显微镜（FESEM） | 第33-37页 |
| ·能量色散X射线光谱(EDX)和X射线光电子能谱（XPS） | 第37-45页 |
| ·本章总结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第三章 Mn-Co-Ni-O薄膜的近红外和可见光区域光学性质 | 第47-54页 |
| ·椭圆偏振光谱原理简介 | 第47页 |
| ·红外椭圆偏振光谱实验 | 第47页 |
| ·Mn-Co-Ni-O薄膜光学性质随薄膜厚度的变化 | 第47-52页 |
| ·折射率和消光系数随薄膜厚度的变化； | 第50-51页 |
| ·禁带宽度随薄膜厚度的变化 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第四章 不同厚度Mn-Co-Ni-O薄膜的电学性能 | 第54-70页 |
| ·不同厚度的Mn-Co-Ni-O薄膜材料电阻随温度变化的关系 | 第54-57页 |
| ·不同厚度Mn-Co-Ni-O薄膜材料特征温度（T0） | 第57-58页 |
| ·特征温度（T0）的分析 | 第58-65页 |
| ·特征温度和薄膜厚度的关系 | 第58-62页 |
| ·特征温度和电阻率，载流子浓度，霍尔迁移率，半导体类型的关系 | 第62-65页 |
| ·Mn~(3+)和Mn~(4+)离子间电子的跳跃频率 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-70页 |
| 第五章 结论与展望 | 第70-72页 |
| ·结论 | 第70-71页 |
| ·展望 | 第71-72页 |
| 附录 | 第72-73页 |
| 待发表论文 | 第72页 |
| 待发表专利 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
