| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·LED简介 | 第10-18页 |
| ·LED的发展史 | 第10-12页 |
| ·LED的特点 | 第12-14页 |
| ·LED的发光原理 | 第14-17页 |
| ·LED的发光效率 | 第17-18页 |
| ·提高LED出光效率的方式 | 第18-20页 |
| ·表面粗化技术 | 第18-19页 |
| ·光子晶体技术 | 第19页 |
| ·透明衬底技术 | 第19页 |
| ·芯片倒装技术 | 第19-20页 |
| ·布拉格发射技术 | 第20页 |
| ·增透膜技术 | 第20页 |
| ·薄膜制备方法 | 第20-24页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积法 | 第21页 |
| ·离子束辅助沉积法 | 第21-22页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第22页 |
| ·分子束外延法 | 第22页 |
| ·热蒸发法 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射法 | 第23-24页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 多层膜膜系结构设计 | 第26-42页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·薄膜光学的基本理论 | 第26-32页 |
| ·单层薄膜 | 第26-29页 |
| ·多层薄膜 | 第29-32页 |
| ·薄膜材料的选取 | 第32-35页 |
| ·薄膜材料的选取依据 | 第32-34页 |
| ·薄膜材料的选取 | 第34-35页 |
| ·膜系设计 | 第35-41页 |
| ·多层膜结构模型 | 第35-36页 |
| ·多层膜结构设计方法 | 第36-37页 |
| ·多层膜结构设计 | 第37-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 ZnS/TiO_2/MgF_2多层膜的制备及性能研究 | 第42-56页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·实验部分 | 第43-47页 |
| ·实验设备 | 第43-44页 |
| ·实验药品 | 第44-45页 |
| ·其他实验仪器 | 第45页 |
| ·实验基片的清洁处理 | 第45页 |
| ·ZnS/TiO_2/MgF_2多层薄膜的镀制 | 第45-46页 |
| ·实验表征方法 | 第46-47页 |
| ·实验结果与讨论 | 第47-53页 |
| ·ZnS/TiO_2/MgF_2多层薄膜SEM分析 | 第47-49页 |
| ·ZnS/TiO_2/MgF_2多层薄膜AFM分析 | 第49-51页 |
| ·ZnS/TiO_2/MgF_2多层薄膜厚度分析 | 第51页 |
| ·ZnS/TiO_2/MgF_2多层薄膜紫外-可见光吸收光谱分析 | 第51-52页 |
| ·ZnS/TiO_2/MgF_2多层薄膜透过率光谱分析 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-56页 |
| 第四章 ZnS/TiO_2/MgF_2多层膜与YAG:Ce荧光膜的复合性能研究 | 第56-66页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·实验部分 | 第57-59页 |
| ·实验药品 | 第57页 |
| ·实验仪器 | 第57-58页 |
| ·实验过程 | 第58-59页 |
| ·实验表征方法 | 第59页 |
| ·实验结果与讨论 | 第59-63页 |
| ·复合薄膜紫外-可见光吸收光谱分析 | 第59-60页 |
| ·复合薄膜透过率光谱分析 | 第60-62页 |
| ·复合薄膜荧光光谱分析 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-68页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 攻读硕士期间科研成果 | 第78页 |
