| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·前言 | 第9页 |
| ·光催化的概述 | 第9-13页 |
| ·光催化的研究背景 | 第9-10页 |
| ·光催化作用机理 | 第10-11页 |
| ·光催化的应用领域 | 第11-13页 |
| ·铋系光催化剂的概述 | 第13-16页 |
| ·铋系光催化剂的分类 | 第13-15页 |
| ·铋系光催化剂的合成方法 | 第15-16页 |
| ·铋系光催化剂存在的问题 | 第16页 |
| ·提高铋系光催化活性的方法 | 第16-21页 |
| ·控制形貌 | 第17-18页 |
| ·贵金属沉积 | 第18-19页 |
| ·掺杂改性 | 第19页 |
| ·半导体的复合 | 第19-21页 |
| ·立题依据及研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 Bi_2Mo O_6中空微球的制备及其光催化性能研究 | 第22-32页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·实验部分 | 第22-24页 |
| ·实验试剂 | 第22-23页 |
| ·仪器及设备 | 第23页 |
| ·实验步骤 | 第23页 |
| ·表征方法 | 第23页 |
| ·光催化性能测定 | 第23-24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-31页 |
| ·XRD分析 | 第24-25页 |
| ·SEM分析 | 第25-26页 |
| ·UV-vis DRS分析 | 第26-27页 |
| ·反应温度的影响 | 第27-28页 |
| ·时间演化过程研究 | 第28-29页 |
| ·N_2吸附-脱附分析 | 第29-30页 |
| ·光催化性能测试 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 非化学计量比钼酸铋的制备与光催化性能研究 | 第32-43页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验部分 | 第32-34页 |
| ·实验试剂 | 第32-33页 |
| ·仪器及设备 | 第33页 |
| ·实验步骤 | 第33页 |
| ·表征方法 | 第33-34页 |
| ·光催化性能测定 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-42页 |
| ·XRD分析 | 第34-36页 |
| ·XPS分析 | 第36-37页 |
| ·UV-vis DRS分析 | 第37-38页 |
| ·PL分析 | 第38页 |
| ·SEM分析 | 第38-39页 |
| ·光催化性能的测定 | 第39-40页 |
| ·光催化反应中活性种的分析 | 第40-41页 |
| ·光催化剂的稳定性 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 g-C_3N_4/BiVO_4复合光催化剂的制备与光催化性能研究 | 第43-57页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44-46页 |
| ·实验试剂 | 第44页 |
| ·仪器及设备 | 第44-45页 |
| ·实验步骤 | 第45页 |
| ·表征方法 | 第45页 |
| ·光催化性能测定 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-55页 |
| ·FT-IR分析 | 第46-47页 |
| ·XRD分析 | 第47-48页 |
| ·SEM和TEM分析 | 第48-49页 |
| ·UV-vis DRS分析 | 第49-50页 |
| ·N_2吸附-脱附分析 | 第50-51页 |
| ·光催化性能的测定 | 第51-53页 |
| ·光催化反应中活性种的分析 | 第53-54页 |
| ·光催化剂的稳定性 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 主要结论与展望 | 第57-59页 |
| 主要结论 | 第57-58页 |
| 展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 附录: 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第66页 |