| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·光催化技术的应用 | 第9-10页 |
| ·光解水制氢 | 第9页 |
| ·环境污染治理功能 | 第9-10页 |
| ·其他应用 | 第10页 |
| ·半导体光催化基本原理 | 第10-12页 |
| ·光催化性能的影响因素 | 第12-15页 |
| ·催化剂自身因素 | 第13-14页 |
| ·外部因素的影响 | 第14-15页 |
| ·提高光催化性能的途径 | 第15-16页 |
| ·离子掺杂 | 第15页 |
| ·贵金属负载 | 第15-16页 |
| ·半导体复合 | 第16页 |
| ·选题依据及研究内容 | 第16-18页 |
| ·选题依据 | 第16-17页 |
| ·研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 实验部分 | 第18-22页 |
| ·催化剂制备 | 第18页 |
| ·实验试剂 | 第18页 |
| ·催化剂的制备 | 第18页 |
| ·催化剂的表征 | 第18-20页 |
| ·X-射线粉末衍射(XRD) | 第18-19页 |
| ·紫外-可见漫反射(UV-vis DRS) | 第19页 |
| ·热重-差热分析(TG-DTA) | 第19页 |
| ·比表面积测定(BET) | 第19页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第19页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第19页 |
| ·傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第19-20页 |
| ·荧光光谱(PL) | 第20页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第20页 |
| ·光电流(PC) | 第20页 |
| ·催化剂活性评价 | 第20-22页 |
| ·光催化降解反应 | 第20-21页 |
| ·紫外可见吸收光谱(UV-vis) | 第21页 |
| ·活性物种测试 | 第21页 |
| ·催化剂活性循环测试 | 第21-22页 |
| 第三章 SiO_2/g-C_3N_4催化剂的制备及其光催化性能研究 | 第22-30页 |
| ·引言 | 第22-23页 |
| ·实验部分 | 第23页 |
| ·SiO_2/g-C_3N_4催化剂的制备 | 第23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-29页 |
| ·催化剂的表征 | 第23-27页 |
| ·TG表征 | 第23页 |
| ·XRD表征 | 第23-24页 |
| ·XPS表征 | 第24页 |
| ·BET表征 | 第24-25页 |
| ·UV-vis DRS表征 | 第25-26页 |
| ·TEM表征 | 第26-27页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第27-28页 |
| ·可见光下SiO_2/g-C_3N_4复合催化剂的作用机理 | 第28-29页 |
| ·结论 | 第29-30页 |
| 第四章 ZrO_2/g-C_3N_4催化剂的制备及其光催化性能研究 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·实验部分 | 第31页 |
| ·ZrO_2/g-C_3N_4催化剂的制备 | 第31页 |
| ·g-C_3N_4的制备 | 第31页 |
| ·ZrO_2的制备 | 第31页 |
| ·ZrO_2/g-C_3N_4的制备 | 第31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-41页 |
| ·催化剂的表征 | 第31-38页 |
| ·SEM、TEM表征 | 第31-33页 |
| ·BET表征 | 第33页 |
| ·XRD表征 | 第33-34页 |
| ·FT-IR表征 | 第34页 |
| ·XPS表征 | 第34-36页 |
| ·PL表征 | 第36页 |
| ·EIS、光电流表征 | 第36-37页 |
| ·UV-vis表征 | 第37-38页 |
| ·催化剂的活性评价 | 第38-41页 |
| ·结论 | 第41-42页 |
| 第五章 结论与展望 | 第42-44页 |
| ·结论 | 第42页 |
| ·展望 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第52-53页 |
