| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第1章 文献综述 | 第12-30页 |
| ·前言 | 第12页 |
| ·单晶金刚石的性能 | 第12-15页 |
| ·电学性能 | 第12-13页 |
| ·光学性能 | 第13-15页 |
| ·单晶金刚石的应用领域 | 第15-19页 |
| ·刀具领域 | 第15页 |
| ·半导体领域 | 第15-17页 |
| ·粒子探测器领域 | 第17-18页 |
| ·珠宝领域 | 第18-19页 |
| ·单晶金刚石的人工合成方法 | 第19-26页 |
| ·高温高压法 | 第19-20页 |
| ·直流喷射电弧等离子体法 | 第20-21页 |
| ·异质外延法 | 第21-23页 |
| ·同质外延法 | 第23-26页 |
| ·单晶金刚石的退火 | 第26-27页 |
| ·本工作的主要意义和研究内容 | 第27-30页 |
| 第2章 实验装置及表征 | 第30-36页 |
| ·实验装置 | 第30-33页 |
| ·金刚石同质外延生长装置 | 第30页 |
| ·机械抛光装置 | 第30-31页 |
| ·激光切割装置 | 第31-32页 |
| ·光谱测量装置 | 第32-33页 |
| ·单晶金刚石的表征 | 第33-36页 |
| ·金相显微镜 | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第34-36页 |
| 第3章 HPHT 金刚石颗粒的同质外延生长 | 第36-52页 |
| ·引言 | 第36-38页 |
| ·衬底的预处理 | 第38-39页 |
| ·机械抛光处理 | 第38页 |
| ·酸处理 | 第38-39页 |
| ·丙酮超声处理 | 第39页 |
| ·等离子体刻蚀处理 | 第39页 |
| ·晶面取向对金刚石生长形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·工作气压对金刚石生长形貌的影响 | 第41-46页 |
| ·低气压生长 | 第41-43页 |
| ·高气压生长 | 第43-46页 |
| ·金刚石的生长速率 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-52页 |
| 第4章 HPHT 金刚石单晶片的同质外延生长 | 第52-66页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·甲烷浓度对金刚石生长形貌的影响 | 第52-55页 |
| ·氢等离子体刻蚀对金刚石生长的影响 | 第55-59页 |
| ·生长前刻蚀 | 第55-58页 |
| ·生长过程中刻蚀 | 第58-59页 |
| ·金刚石的生长速率 | 第59-60页 |
| ·氧气掺入对金刚石生长的影响 | 第60-62页 |
| ·金刚石的生长质量 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-66页 |
| 第5章 CVD 金刚石单晶片的同质外延生长 | 第66-72页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·甲烷浓度的影响 | 第66-68页 |
| ·CVD 与 HPHT 金刚石单晶片同质外延生长的比较 | 第68-71页 |
| ·金刚石生长过程中的等离子发射光谱的比较 | 第68-70页 |
| ·金刚石生长质量的比较 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第6章 总结与展望 | 第72-76页 |
| ·论文总结 | 第72-74页 |
| ·论文展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第84-86页 |
| 致谢 | 第86页 |