| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·钛硅分子筛的概述 | 第10-16页 |
| ·钛硅分子筛的结构 | 第11-12页 |
| ·钛硅分子筛的制备方法 | 第12-16页 |
| ·水热合成法 | 第12-15页 |
| ·同晶取代法 | 第15页 |
| ·凝胶转化法 | 第15-16页 |
| ·钛硅分子筛膜的概述 | 第16-22页 |
| ·钛硅分子筛膜简介 | 第16-17页 |
| ·钛硅分子筛膜的制备方法 | 第17-20页 |
| ·原位水热合成法 | 第17-19页 |
| ·晶种法 | 第19-20页 |
| ·制备方法的评价 | 第20-21页 |
| ·钛硅分子筛膜的成膜机理 | 第21-22页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方法 | 第24-32页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第24-25页 |
| ·实验试剂 | 第24页 |
| ·实验仪器 | 第24-25页 |
| ·实验部分 | 第25-30页 |
| ·SiO_2改性的α-Al_2O_3基多孔陶瓷片状载体的制备 | 第25页 |
| ·无机钛源合成 TS-1 分子筛 | 第25-27页 |
| ·水热合成法 | 第25-26页 |
| ·凝胶转化法 | 第26-27页 |
| ·水蒸汽辅助凝胶转化法 | 第27页 |
| ·小晶粒 TS-1 分子筛的制备 | 第27-28页 |
| ·小晶粒 TS-1 分子筛的制备 | 第27-28页 |
| ·模板剂的脱除 | 第28页 |
| ·完备性 TS-1 分子筛膜的制备 | 第28-30页 |
| ·晶种的制备 | 第28-29页 |
| ·晶种层的制备 | 第29页 |
| ·TS-1 分子筛膜的制备 | 第29-30页 |
| ·钛硅分子筛(TS-1)膜的表征 | 第30-32页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第30页 |
| ·物理吸附 | 第30-31页 |
| ·单气体(He)渗透测试 | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第31页 |
| ·紫外可见吸收光谱(UV-Vis) | 第31-32页 |
| 第三章 无机钛源合成 TS-1 分子筛及其膜 | 第32-48页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-46页 |
| ·水热合成法制备 TS-1 分子筛及其膜 | 第32-39页 |
| ·钛源对分子筛的影响 | 第32-35页 |
| ·钛源对分子筛膜的影响 | 第35-38页 |
| ·晶化时间的影响 | 第38-39页 |
| ·凝胶转化法制备 TS-1 分子筛膜 | 第39-44页 |
| ·铵盐的影响 | 第40-43页 |
| ·晶化时间的影响 | 第43页 |
| ·钛源的影响 | 第43-44页 |
| ·水蒸汽辅助凝胶转化法制备 TS-1 分子筛膜 | 第44-46页 |
| ·晶化时间的影响 | 第44-45页 |
| ·钛源的影响 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 小晶粒 TS-1 分子筛的合成及模板剂的脱除 | 第48-59页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·实验结果分析 | 第49-58页 |
| ·小晶粒 TS-1 分子筛的合成 | 第49-53页 |
| ·晶化时间的影响 | 第49-51页 |
| ·钛源的影响 | 第51-53页 |
| ·模板剂的脱除 | 第53-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 动态润湿法制备高重复性致密 TS-1 分子筛膜 | 第59-75页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-74页 |
| ·TS-1 晶种层 | 第60-62页 |
| ·晶种涂覆方法的影响 | 第62-64页 |
| ·晶化次数的影响 | 第64-67页 |
| ·晶化时间的影响 | 第67-71页 |
| ·气体渗透性能测试 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第85-86页 |
