| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·介质光波导 | 第8-9页 |
| ·光波导分类 | 第8-9页 |
| ·光波导器件的应用 | 第9页 |
| ·铌酸锂(LiNbO_3，LN)晶体 | 第9-12页 |
| ·LiNbO_3晶体的性质与结构 | 第9-10页 |
| ·同成分 LiNbO_3晶体 | 第10页 |
| ·近化学计量比 LiNbO_3晶体的特点 | 第10页 |
| ·LiNbO_3晶体的掺杂工程 | 第10-12页 |
| ·本论文的工作和意义 | 第12-14页 |
| 第二章 光波导的传输特性分析 | 第14-30页 |
| ·麦克斯韦方程组 | 第14-15页 |
| ·波动方程 | 第15-16页 |
| ·平板介质光波导的分析 | 第16-23页 |
| ·线光学模型 | 第16-19页 |
| ·电磁场理论方法 | 第19-23页 |
| ·条形介质光波导的分析 | 第23-30页 |
| ·马卡梯里法 | 第24-28页 |
| ·有效折射率法 | 第28-30页 |
| 第三章 波导制备相关技术以及表征方法 | 第30-39页 |
| ·镀膜工艺 | 第30-33页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第30-32页 |
| ·热蒸发镀膜 | 第32页 |
| ·电子束蒸发镀膜 | 第32-33页 |
| ·光刻技术 | 第33-34页 |
| ·用于制备非同成分铌酸锂晶体的气相输运平衡(VTE)技术 | 第34-37页 |
| ·坩埚的制作 | 第35页 |
| ·VTE 处理的过程 | 第35-36页 |
| ·VTE 技术在处理 LiNbO_3晶体过程中的作用 | 第36-37页 |
| ·棱镜耦合技术 | 第37-39页 |
| 第四章 NS Ti:LiNbO_3平面光波导的制备与表征 | 第39-50页 |
| ·NS Ti:LiNbO_3平面光波导的制备 | 第39-42页 |
| ·棱镜耦合仪表征 NS Ti:LiNbO_3平面光波导 | 第42-44页 |
| ·波导折射率变化与浓度之间关系的研究 | 第44-50页 |
| ·平面波导的扩散理论 | 第44-46页 |
| ·钛扩散波导的折射率模型 | 第46-47页 |
| ·波导层折射率变化以及浓度之间关系 | 第47-50页 |
| 第五章 抗光折变 NS Ti:Mg:LN 无源条形光波导的表征 | 第50-62页 |
| ·近场方法建立条形光波导的折射率模型 | 第50-52页 |
| ·条形光波导折射率模型的建立 | 第50-52页 |
| ·用来验证折射率模型的变分方法 | 第52页 |
| ·特殊结构的 NS Ti: Mg:LiNbO_3无源条形光波导的表征 | 第52-62页 |
| ·制备工艺 | 第53-54页 |
| ·NS Ti:Mg:LN 波导的折射率分布 | 第54-57页 |
| ·变分方法验证折射率模型 | 第57页 |
| ·折射率变化与表面 Ti~(4+)浓度之间的关系 | 第57-62页 |
| 第六章 抗光折变 NS Ti:Mg:Er:LiNbO_3有源条形光波导的表征 | 第62-68页 |
| ·制备工艺 | 第62-63页 |
| ·NS Ti:Mg:Er:LN 波导的折射率分布 | 第63-66页 |
| ·变分方法检验折射率模型 | 第66-68页 |
| 第七章 总结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
