| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·光催化简介 | 第7-9页 |
| ·光催化剂的研究现状 | 第7页 |
| ·半导体光催化的基本原理 | 第7-8页 |
| ·光催化效率的影响因素 | 第8页 |
| ·光催化剂的改进 | 第8-9页 |
| ·静电纺丝法简介 | 第9-10页 |
| ·静电纺丝技术 | 第9-10页 |
| ·静电纺丝原理 | 第10页 |
| ·主要影响因素 | 第10页 |
| ·钒氧化物 | 第10-11页 |
| ·钒氧化物概述 | 第10页 |
| ·五氧化二钒(V_2O_5) | 第10-11页 |
| ·钒氧化物的应用 | 第11页 |
| ·钼氧化物 | 第11-13页 |
| ·钒氧化物概述 | 第11-12页 |
| ·三氧化钼(MoO_3) | 第12-13页 |
| ·钼氧化物的应用 | 第13页 |
| ·本论文立题思想 | 第13-14页 |
| 第二章 实验部分 | 第14-18页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第14-15页 |
| ·主要化学试剂 | 第14页 |
| ·主要实验仪器 | 第14-15页 |
| ·实验部分 | 第15-18页 |
| ·MoO_3/V_2O_5异质结构材料的制备 | 第15-16页 |
| ·V_2O_5/MoO_3异质结构材料的制备 | 第16页 |
| ·样品的表征 | 第16-17页 |
| ·光催化性能测试 | 第17-18页 |
| 第三章 MoO_3/V_2O_5异质结构材料的静电纺丝法制备及其光催化性能 | 第18-27页 |
| ·引言 | 第18-19页 |
| ·结果与讨论 | 第19-26页 |
| ·XRD分析 | 第19页 |
| ·FT-IR分析 | 第19-20页 |
| ·FE-SEM分析 | 第20-22页 |
| ·XPS分析 | 第22-23页 |
| ·UV-Vis-DRS分析 | 第23-24页 |
| ·光催化性能 | 第24-25页 |
| ·光催化机理 | 第25-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| 第四章 V_2O_5/MoO_3异质结构材料的静电纺丝法制备及其光催化性能 | 第27-36页 |
| ·引言 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-35页 |
| ·XRD分析 | 第28-29页 |
| ·FT-IR分析 | 第29-30页 |
| ·FE-SEM分析 | 第30-31页 |
| ·XPS分析 | 第31-32页 |
| ·UV-Vis-DRS分析 | 第32-33页 |
| ·光催化性能 | 第33-34页 |
| ·光催化机制 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第五章 结论 | 第36-37页 |
| ·结论 | 第36-37页 |
| 致谢 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-43页 |
| 作者简介 | 第43页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第43-44页 |