| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| ·研究背景 | 第13-14页 |
| ·光伏材料的发展趋势 | 第14-19页 |
| ·第一代太阳电池 | 第14页 |
| ·第二代太阳电池 | 第14-17页 |
| ·第三代太阳电池 | 第17-19页 |
| ·纳米多层膜 | 第19-20页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜结构的研究现状 | 第20-22页 |
| ·本论文的研究目的及意义 | 第22-23页 |
| ·本论文的研究内容与技术路线 | 第23-25页 |
| ·本论文的研究内容 | 第23-24页 |
| ·本论文的技术路线 | 第24-25页 |
| 第二章 实验设备与方法 | 第25-32页 |
| ·实验原理和设备 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射设备及原理 | 第25-26页 |
| ·管式气氛炉及原理 | 第26页 |
| ·实验材料准备 | 第26-28页 |
| ·靶材的准备 | 第26-27页 |
| ·衬底材料的选择与预处理 | 第27-28页 |
| ·薄膜的沉积 | 第28-29页 |
| ·薄膜的热处理 | 第29页 |
| ·薄膜的分析方法 | 第29-32页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第29页 |
| ·拉曼光谱（Raman） | 第29-30页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FESEM） | 第30页 |
| ·薄膜的表面粗糙度 | 第30页 |
| ·紫外-可见光谱（UV-Vis） | 第30-31页 |
| ·划痕实验 | 第31-32页 |
| 第三章 Ge/SiO_2多层薄膜的设计、制备与性能 | 第32-42页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜的设计、制备 | 第32-33页 |
| ·Ge 层厚度对 Ge/SiO_2多层薄膜的组织、结构和光学性能的影响 | 第33-38页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜的结晶性能分析 | 第33-34页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜的结构表界面分析 | 第34-36页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜的光学性能分析 | 第36-38页 |
| ·周期数对 Ge/SiO_2多层薄膜的组织、结构和光学性能的影响 | 第38-41页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜的结晶性能分析 | 第38-39页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜的结构表界面分析 | 第39-40页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜的光学性能分析 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 退火工艺对 Ge/SiO_2多层膜的结构和性能的影响 | 第42-55页 |
| ·Ge/SiO_2多层薄膜的退火工艺 | 第42页 |
| ·退火温度对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的组织、结构和性能的影响 | 第42-49页 |
| ·退火温度对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜结晶性能的影响 | 第42-44页 |
| ·退火温度对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜表界面结构的影响 | 第44-48页 |
| ·退火温度对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜光学性能的影响 | 第48页 |
| ·退火温度对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜力学性能的影响 | 第48-49页 |
| ·退火时间对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的组织、结构和性能的影响 | 第49-53页 |
| ·退火时间对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜结晶性能的影响 | 第49-50页 |
| ·退火时间对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜表界面结构的影响 | 第50-52页 |
| ·退火时间对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜光学性能的影响 | 第52-53页 |
| ·退火时间对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜力学性能的影响 | 第53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 硼掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的结构和性能 | 第55-66页 |
| ·硼(B)掺杂 Ge/SiO_2薄膜的制备和退火处理 | 第55页 |
| ·B 掺杂对(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的微结构和性能的影响 | 第55-59页 |
| ·B 掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的结晶性能和成分分析 | 第55-56页 |
| ·B 掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的表界面分析 | 第56-58页 |
| ·B 掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的光学性能分析 | 第58-59页 |
| ·B 掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的力学性能分析 | 第59页 |
| ·硼(B)掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜的热退火效应 | 第59-65页 |
| ·B 掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜退火后的结晶性能分析 | 第59-61页 |
| ·B 掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜退火后的表界面分析 | 第61-63页 |
| ·B 掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜退火后的光学性能分析 | 第63-64页 |
| ·B 掺杂(Ge/SiO_2)_(15)薄膜退火后的力学性能分析 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论与展望 | 第66-68页 |
| ·本文的主要结论 | 第66-67页 |
| ·展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 学习期间发表的学术论文 | 第76页 |
