| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 1 绪论 | 第12-23页 |
| ·碲基硫系玻璃 | 第12-14页 |
| ·概述 | 第12页 |
| ·碲基硫系玻璃的研究历程 | 第12-13页 |
| ·碲基硫系玻璃的应用 | 第13-14页 |
| ·硫系微结构光纤 | 第14-19页 |
| ·硫系微结构光纤概述 | 第14-15页 |
| ·硫系微结构光纤的研究历程 | 第15-18页 |
| ·硫系微结构光纤的特性及应用 | 第18-19页 |
| ·课题的提出和研究内容 | 第19-23页 |
| 2 Te 基硫系玻璃及微结构光纤光学理论 | 第23-33页 |
| ·硫系玻璃基础理论 | 第23-30页 |
| ·玻璃的形成与通性 | 第23页 |
| ·玻璃的结构模型 | 第23-25页 |
| ·玻璃的热学特性 | 第25-26页 |
| ·光学带隙 | 第26-27页 |
| ·光学特性及红外截止边理论 | 第27-29页 |
| ·高纯硫系玻璃的制备 | 第29-30页 |
| ·硫系微结构光纤基础理论 | 第30-33页 |
| ·硫系 MOF 的玻璃组成 | 第30页 |
| ·硫系 MOF 的制备工艺 | 第30-33页 |
| 3 实验过程及测试方法 | 第33-40页 |
| ·玻璃样品的制备 | 第33-35页 |
| ·石英管预处理 | 第33页 |
| ·原料称量与抽真空 | 第33-34页 |
| ·玻璃的熔制和退火 | 第34页 |
| ·玻璃加工 | 第34-35页 |
| ·玻璃的测试 | 第35-36页 |
| ·X 射线衍射（ XRD）测试 | 第35页 |
| ·密度测试 | 第35页 |
| ·热学特性测试 | 第35-36页 |
| ·可见-近红外光谱 | 第36页 |
| ·傅里叶光谱测试 | 第36页 |
| ·硫系微结构光纤的制备 | 第36-40页 |
| ·挤压法制作硫系 MOF 预制棒流程 | 第36-37页 |
| ·硫系玻璃挤压设备的开发以及拉丝机改造 | 第37-39页 |
| ·光纤端面和强度测试 | 第39-40页 |
| 4 高稳定性碲基硫系玻璃性能研究 | 第40-54页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·远红外 Ge-Te-Ag 硫系玻璃性能研究 | 第40-46页 |
| ·玻璃形成区和 XRD 分析 | 第40-42页 |
| ·物理热学性质 | 第42页 |
| ·可见-近红外吸收光谱和光学带隙 | 第42-45页 |
| ·傅里叶红外透过光谱 | 第45-46页 |
| ·Ge-Te-Ga-Al 硫系玻璃性能研究 | 第46-50页 |
| ·Ge-Te-Ga-AlCl_3硫系玻璃性能研究 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 5 高纯远红外 Ge_(15)Te_(75)Ga_(10)硫系玻璃的制备和研究 | 第54-64页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·真空蒸馏理论 | 第54-55页 |
| ·方案设计 | 第55-57页 |
| ·结果 | 第57-61页 |
| ·热学特性 | 第57-58页 |
| ·可见-近红外透过光谱 | 第58页 |
| ·组分杂质含量测量分析 | 第58-59页 |
| ·光学损耗 | 第59-61页 |
| ·结果分析 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 6 高强度硫系玻璃微结构光纤初步研究 | 第64-71页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·预制棒制作和拉丝实验 | 第64-65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 结束语 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 在学研究成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |