| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| ·垂直腔面发射激光器的发展概述及结构 | 第11-14页 |
| ·垂直腔面发射激光器的发展过程 | 第11-12页 |
| ·垂直腔面发射激光器的基本结构 | 第12-14页 |
| ·垂直腔面发射激光器的特点 | 第14页 |
| ·波长可调谐垂直腔面发射激光器的研究现状 | 第14-19页 |
| ·微机械悬臂梁静电激励可调谐 VCSEL | 第15-16页 |
| ·微机械压电激励可调谐 VCSEL | 第16页 |
| ·微机械薄膜结构静电激励调谐 VCSEL | 第16-17页 |
| ·微机械半对称腔可调谐垂直腔面发射激光器 | 第17-19页 |
| ·波长可调谐 VCSEL 的偏振控制方法 | 第19-21页 |
| ·采用高对比度光栅实现偏振控制 | 第19页 |
| ·采用内腔液晶实现可调谐 VCSEL 的偏振控制 | 第19-20页 |
| ·采用非对称薄膜结构实现偏振控制 | 第20-21页 |
| ·本论文的研究工作 | 第21-23页 |
| 第2章 偏振控制可调谐 VCSEL的基本理论和结构设计 | 第23-39页 |
| ·垂直腔面发射激光器的工作原理 | 第23-24页 |
| ·可调谐垂直腔面发射激光器的结构及波长调谐原理 | 第24-32页 |
| ·可调谐垂直腔面发射激光器的结构 | 第24页 |
| ·可调谐垂直腔面发射激光器谐振腔设计及调谐特性分析 | 第24-27页 |
| ·可调谐垂直腔面发射激光器 MEMS 薄膜的机械特性模拟 | 第27-32页 |
| ·偏振控制可调谐垂直腔面发射激光器的设计 | 第32-37页 |
| ·内腔亚波长光栅实现偏振控制的基本原理 | 第32页 |
| ·偏振控制可调谐垂直腔面发射激光器的结构设计 | 第32-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第3章 垂直腔面发射激光器耗散功率分析 | 第39-55页 |
| ·速率方程 | 第39-47页 |
| ·速率方程及稳态解 | 第39-43页 |
| ·VCSEL 的小信号频率响应 | 第43-47页 |
| ·VCSEL 耗散功率经验模型 | 第47-50页 |
| ·耗散功率经验模型的基本理论 | 第47页 |
| ·有源区的禁带宽度随温度的变化 | 第47-49页 |
| ·VCSEL 温度随注入电流的变化 | 第49-50页 |
| ·VCSEL 内量子效率随注入电流的变化 | 第50页 |
| ·VCSEL 中不同耗散功率的分析与讨论 | 第50-53页 |
| ·VCSEL 的总耗散功率 | 第50-51页 |
| ·VCSEL 的线性耗散功率 | 第51-52页 |
| ·VCSEL 的线性耗散功率对器件热滚降的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第4章 VCSEL及可调谐 VCSEL的关键工艺研究 | 第55-65页 |
| ·可调谐 VCSEL 微机械薄膜的通孔刻蚀工艺 | 第55-58页 |
| ·ICP 刻蚀 GaAs 的基本原理 | 第55-56页 |
| ·ICP 深刻蚀 GaAs 衬底工艺 | 第56-58页 |
| ·定波长 VCSEL 的工艺制备 | 第58-61页 |
| ·VCSEL 的台面腐蚀工艺 | 第58-59页 |
| ·VCSEL 的湿氮氧化工艺 | 第59-61页 |
| ·可调谐 VCSEL 的整体工艺 | 第61-63页 |
| ·半 VCSEL 结构的制作 | 第61-62页 |
| ·可调谐 VCSEL 制备工艺流程 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第5章 器件测试与分析 | 第65-75页 |
| ·VCSEL 在片测试设备 | 第65-66页 |
| ·VCSEL 的测试与分析 | 第66-70页 |
| ·不同氧化孔径 VCSEL 的变温 L-I-V 特性 | 第66-67页 |
| ·VCSEL 阈值电流和激射波长随温度的变化 | 第67-68页 |
| ·VCSEL 小信号调制特性测试与分析 | 第68-70页 |
| ·可调谐 VCSEL 的测试与分析 | 第70-73页 |
| ·可调谐 VCSEL 的测试原理 | 第70-71页 |
| ·可调谐 VCSEL 的测试结果 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
