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等离子体增强磁控溅射电磁场的模拟--磁场与等离子体的数值模拟

中文摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
1. 绪论第10-23页
   ·磁控溅射的原理及应用第10-12页
     ·磁控溅射的原理第10-12页
     ·磁控溅射的应用第12页
   ·等离子体概述第12-14页
     ·等离子体的概念第12-13页
     ·等离子体的性质第13-14页
     ·等离子体判据第14页
   ·低温等离子体第14-21页
     ·低温等离子体的产生第15-17页
       ·电晕放电(Corona Discharge)第15页
       ·辉光放电(Glow Discharge)第15页
       ·介质阻挡放电(Dielectric Barrier Discharge,DBD)第15-16页
       ·射频放电(Radio Frequency Discharge)第16页
       ·微波放电(microwave discharge)第16-17页
     ·低温等离子体的应用第17-18页
       ·等离子体光源第17页
       ·等离子体化工第17页
       ·半导体刻蚀第17-18页
       ·薄膜沉积第18页
       ·材料表面改性第18页
     ·低温等离子体的研究现状第18-21页
       ·动力学模型第18-19页
       ·粒子(PIC)模型第19-21页
       ·流体模型第21页
   ·本文的目的、意义及主要内容第21-23页
2.模型的建立与计算第23-34页
   ·研究对象及物理模型第23-25页
   ·磁场的数值模拟第25-27页
   ·等离子体的数值模拟第27-34页
     ·等离子体模型第27-29页
     ·边界条件第29-30页
     ·初始条件第30页
     ·无量纲化第30-31页
     ·数值方法第31-34页
3.模拟结果及理论分析第34-57页
   ·磁场的模拟结果第34-41页
     ·磁场与磁通的分布情况第34-35页
     ·通电电流对磁场模拟结果的影响第35-37页
     ·两线圈的通电电流不同时磁场的分布情况第37-41页
   ·等离子体的模拟结果第41-47页
     ·等离子体的空间分布第42-46页
     ·带电粒子密度随时间的变化第46页
     ·装置不同位置等离子体分布的比较第46-47页
   ·电离项对电离机制的影响第47-57页
     ·等离子体的电离机制第48页
     ·电离项的分布第48-53页
     ·电离项随时间的变化第53-55页
     ·电离项在装置不同高度的分布情况第55-57页
4 结论第57-58页
参考文献第58-63页
附录第63-64页
致谢第64-65页
作者简介第65-66页

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