摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
·高储能密度电容器 | 第11-13页 |
·高介电材料的介电机理 | 第13-16页 |
·电子位移极化 | 第15页 |
·离子极化 | 第15页 |
·空间电荷极化 | 第15-16页 |
·转向极化 | 第16页 |
·界面极化 | 第16页 |
·介电材料的研究进展 | 第16-20页 |
·陶瓷材料 | 第16-17页 |
·聚合物类材料 | 第17页 |
·复合类材料 | 第17-20页 |
·复合介电材料制备方法 | 第20-21页 |
·混合法 | 第20-21页 |
·插层法 | 第21页 |
·原位聚合法 | 第21页 |
·本课题的选择以及主要工作内容 | 第21-23页 |
·选题意义 | 第21-22页 |
·主要工作内容 | 第22-23页 |
第二章 高储能密度电容器用介电材料以及测试方法简介 | 第23-34页 |
·高介电聚合物 PVDF | 第23-25页 |
·铁电陶瓷 BaTiO_3 | 第25-27页 |
·高介电薄膜的制备方法简介 | 第27-30页 |
·溶液流延法 | 第27-28页 |
·Langmuir-Blodgett(LB)沉积法 | 第28-30页 |
·旋涂法 | 第30页 |
·高介电薄膜测试方法简介 | 第30-33页 |
·扫描电镜(SEM) | 第30-31页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第31-32页 |
·薄膜热稳定性测试 | 第32页 |
·薄膜介电性能的测试 | 第32-33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
第三章 高介电薄膜的制备及其测试方法 | 第34-40页 |
·实验材料和仪器设备 | 第34-35页 |
·培养皿的处理 | 第35页 |
·溶液流延法制备介电薄膜 | 第35-38页 |
·溶液流延法制备纯 PVDF 薄膜 | 第36-37页 |
·溶液流延法制备 PVDF/BaTiO_3复合薄膜 | 第37-38页 |
·薄膜的介电性能测试方法 | 第38-39页 |
·薄膜介电常数以及介电损耗的测试 | 第38-39页 |
·薄膜击穿电压的测试 | 第39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
第四章 高介电 PVDF 薄膜的特性研究 | 第40-53页 |
·溶液流延法制备 PVDF 薄膜特性研究 | 第40-51页 |
·PVDF 薄膜的介电常数与损耗 | 第41-42页 |
·PVDF 薄膜的击穿电场 | 第42-45页 |
·PVDF 薄膜的表面形貌 | 第45页 |
·PVDF 薄膜的结晶分析 | 第45-46页 |
·PVDF 薄膜的热稳定性分析 | 第46-47页 |
·薄膜厚度对 PVDF 薄膜性能的影响 | 第47-49页 |
·拉伸调制对 PVDF 薄膜性能的影响 | 第49-51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
第五章 高介电 PVDF/纳米 BaTiO_3复合薄膜的特性研究 | 第53-62页 |
·PVDF/ BaTiO_3复合薄膜的介电常数与损耗 | 第53-56页 |
·PVDF/ BaTiO_3复合薄膜的击穿强度 | 第56-58页 |
·PVDF/ BaTiO_3复合薄膜的表面形貌 | 第58-59页 |
·PVDF/ BaTiO_3复合薄膜的结晶分析 | 第59页 |
·PVDF/ BaTiO_3复合薄膜热稳定性分析 | 第59-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
第六章 结论与展望 | 第62-64页 |
·结论 | 第62-63页 |
·展望 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-70页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第70-71页 |