| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-16页 |
| ·研究工作的背景及意义 | 第11-12页 |
| ·研究历史与现状 | 第12-14页 |
| ·研究工作的主要内容和创新点 | 第14-15页 |
| ·本文的组织结构 | 第15-16页 |
| 第二章 积分方程方法关键技术简介 | 第16-26页 |
| ·引言 | 第16页 |
| ·目标的数值离散 | 第16-22页 |
| ·曲面三角形单元 | 第17-18页 |
| ·基于曲面三角形单元的低阶基函数 | 第18-20页 |
| ·曲面四边形单元 | 第20-21页 |
| ·基于曲面四边形单元的低阶基函数 | 第21-22页 |
| ·表面积分方程的建立 | 第22-25页 |
| ·用于金属目标电磁散射求解的表面积分方程 | 第22-24页 |
| ·用于介质目标电磁散射求解的 JMCFIE | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 几类可用于大贴片上的基函数研究 | 第26-49页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·基于 C-RWG 基函数的相位提取基函数 | 第26-30页 |
| ·基于四边形单元的叠层矢量基函数 | 第30-32页 |
| ·基于三角形单元的叠层矢量基函数 | 第32-42页 |
| ·I-型基于三角形单元的叠层基函数 | 第33-34页 |
| ·II-型基于三角形单元的叠层基函数 | 第34-42页 |
| ·构造散度共形的叠层基函数 | 第34-36页 |
| ·II-型基函数正交性分析 | 第36-38页 |
| ·阻抗矩阵稀疏性分析 | 第38-39页 |
| ·数值算例 | 第39-42页 |
| ·几种大贴片基函数性能对比 | 第42-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 新型的行驻波基函数用于金属目标电磁散射分析 | 第49-66页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·新型基函数构造 | 第49-54页 |
| ·高阶 MLFMA 方法的参数设置 | 第54-56页 |
| ·新型基函数用于非光滑凸目标电磁散射分析 | 第56-58页 |
| ·新型基函数用于强耦合目标电磁散射分析 | 第58-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 新型基函数用于含介质的目标的电磁散射分析 | 第66-78页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·导体-介质复合目标的 MLFMA | 第66-67页 |
| ·新型基函数的自适应性研究 | 第67-70页 |
| ·纯介质目标电磁散射求解 | 第70-73页 |
| ·金属-介质复合目标的电磁散射求解 | 第73-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第六章 全文总结及展望 | 第78-81页 |
| ·全文总结 | 第78-80页 |
| ·下一步研究工作的展望 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-88页 |
| 作者攻硕期间取得的成果 | 第88-89页 |