电阻型存储器件的设计,制作及表征
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-18页 |
·传统非挥发性半导体存储器 | 第9-12页 |
·对传统浮栅存储器的改进 | 第12-14页 |
·纳米晶浮栅存储器 | 第12-13页 |
·SONOS存储器 | 第13-14页 |
·新型非挥发性存储器 | 第14-17页 |
·铁电存储器FRAM | 第14-15页 |
·相变存储器PCM | 第15-16页 |
·电阻型存储器RRAM | 第16-17页 |
·本论文研究内容 | 第17-18页 |
第二章 电阻型存储器概述 | 第18-23页 |
·电阻开关现象概述 | 第18-19页 |
·电阻开关现象产生机制 | 第19-21页 |
·RRAM阵列结构 | 第21-22页 |
·对未来电阻型存储器性能的展望 | 第22-23页 |
第三章 基于NiO薄膜的RRAM研究 | 第23-30页 |
·器件制备 | 第23-24页 |
·器件的存储性能研究 | 第24-28页 |
·测试设备介绍 | 第24-25页 |
·器件的存储特性测试 | 第25-28页 |
·器件的可靠性研究 | 第28-30页 |
第四章 NiO电阻型存储器件的存储机理分析 | 第30-39页 |
·NiO电阻型存储器机理简介 | 第30-32页 |
·器件制备与基本电学特性测试 | 第32-34页 |
·器件的电脉冲测试及结果分析 | 第34-38页 |
·NiO电阻型存储器机理分析 | 第38-39页 |
第五章 电阻型存储器件的应用研究 | 第39-53页 |
·柔性衬底WORM器件 | 第39-46页 |
·器件制备 | 第39-40页 |
·器件存储性能测试与分析 | 第40-41页 |
·器件的可靠性测试 | 第41-43页 |
·WORM与RRAM应用的区别 | 第43-44页 |
·不同厚度的NiO薄膜对器件性能影响 | 第44-46页 |
·一种具有自我学习能力的存储器件 | 第46-53页 |
·器件制备与电学特性测试 | 第46-47页 |
·器件的短期记忆与长期记忆 | 第47-53页 |
第六章 总结与展望 | 第53-55页 |
·本课题总结 | 第53-54页 |
·展望 | 第54-55页 |
致谢 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-60页 |
在学期间的研究成果 | 第60页 |