| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-33页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·Ni-Mn-Ga 磁性形状记忆合金 | 第10-20页 |
| ·磁控形状记忆合金 | 第10页 |
| ·磁控形状记忆效应微观机制 | 第10-11页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金的马氏体相变 | 第12-20页 |
| ·Ni-Mn-Ga 磁性形状记忆合金薄膜 | 第20-30页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的制备 | 第20页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的马氏体相变 | 第20-24页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的形状记忆效应 | 第24-26页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的磁性能 | 第26-29页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的应用 | 第29-30页 |
| ·选题的意义和研究内容 | 第30-33页 |
| ·选题的意义 | 第30页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第30-33页 |
| 第二章 样品制备与测试方法 | 第33-45页 |
| ·实验设备 | 第33-38页 |
| ·FJL560Ⅱ型超高真空磁控与离子束联合溅射设备 | 第33-38页 |
| ·真空热处理设备 | 第38页 |
| ·分析测试技术 | 第38-41页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第38-39页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第39-40页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第40页 |
| ·振动样品磁强仪（VSM） | 第40-41页 |
| ·实验过程 | 第41-45页 |
| ·靶材的制备 | 第41-42页 |
| ·基片的准备 | 第42页 |
| ·实验的工艺流程 | 第42-45页 |
| 第三章 衬底负偏压对 Ni-Mn-Ga 薄膜成分、形貌及性能的影响 | 第45-57页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的化学成分 | 第45-47页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的表面形貌 | 第47-50页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的结构 | 第50页 |
| ·Ni-Mn-Ga 合金薄膜的磁性能 | 第50-54页 |
| ·本章小结 | 第54-57页 |
| 第四章 不同厚度 Ni-Mn-Ga 薄膜的成分、形貌及磁性能 | 第57-71页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·薄膜的成分与形貌 | 第57-59页 |
| ·薄膜的组织形貌 | 第59-61页 |
| ·薄膜的结构 | 第61-62页 |
| ·薄膜的磁性能 | 第62-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第83-84页 |
