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磁流变抛光工艺及其装备的关键技术研究与应用

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-10页
目录第10-14页
第一章 绪论第14-26页
   ·引言第14-15页
   ·光学零件的传统加工方法第15-18页
   ·磁流变抛光技术的国内外发展及研究现状第18-23页
   ·本课题的研究目的及意义第23-24页
   ·论文的主要研究内容和章节安排第24-26页
第二章 磁流变抛光设备的关键技术研究第26-47页
   ·引言第26页
   ·磁流变抛光机理与微观解释第26-31页
     ·磁流变抛光原理第26-28页
     ·传统抛光机理学说第28-29页
     ·磁流变抛光的微观解释第29-31页
   ·磁流变抛光设备的方案及结构设计第31-37页
     ·磁流变抛光设备的基本要求第31页
     ·磁流变抛光设备的对比分析第31-32页
     ·磁流变抛光设备的方案设计第32-34页
     ·磁流变抛光设备的结构设计第34-37页
     ·磁流变抛光设备的结构实现第37页
   ·磁流变抛光路径分析第37-38页
   ·磁流变抛光中材料去除模型第38-45页
     ·Preston方程第38-40页
     ·磁流变抛光工艺及其优化控制方法第40-41页
     ·磁流变抛光的材料去除模型第41-42页
     ·磁流变抛光驻留时间的求解第42-45页
   ·本章小结第45-47页
第三章 磁路结构设计及有限元仿真第47-59页
   ·引言第47页
   ·磁路设计理论分析与结构优化第47-51页
     ·磁路结构设计第47-48页
     ·静态磁路的理论分析第48-50页
     ·磁路结构优化第50-51页
   ·空间磁场强度计算分析第51-54页
     ·标量磁位分析第51-53页
     ·抛光区域磁场强度计算分析第53-54页
   ·磁场强度的有限元仿真与分析第54-58页
     ·磁场有限元分析的理论基础第54页
     ·磁路结构的有限元仿真第54-56页
     ·磁场有限元仿真分析结果第56-58页
   ·本章小结第58-59页
第四章 磁流变抛光液体循环系统的设计与开发第59-82页
   ·引言第59页
   ·液体循环系统的研制第59-64页
     ·液体循环系统的基本组成第59-60页
     ·喷嘴的设计及磁场屏蔽第60-62页
     ·液体收集器的设计第62-63页
     ·液体循环系统动力装置的配置第63-64页
   ·搅拌混合系统的设计第64-73页
     ·搅拌混合系统的组成第64-65页
     ·储液缸的设计第65-66页
     ·搅拌混合机理及混合过程第66-68页
     ·搅拌浆的设计第68-69页
     ·搅拌功率的计算第69-71页
     ·电机的选择第71页
     ·搅拌轴的设计第71-73页
   ·粘度控制系统的设计第73-80页
     ·粘度与抛光特性关系第73-74页
     ·粘度控制数学模型第74-76页
     ·粘度控制系统硬件设计第76-78页
     ·粘度控制系统设计第78-80页
   ·本章小结第80-82页
第五章 磁流变抛光工艺的实验研究第82-96页
   ·引言第82页
   ·磁流变抛光实验条件及抛光过程第82-84页
   ·磁流变抛光工艺的参数选取第84-85页
   ·磁流变抛光工艺参数对抛光效果的影响第85-92页
     ·磁流变抛光实验方案设计及实验结果第85-87页
     ·工艺参数显著性水平分析第87-89页
     ·磁感应强度对抛光效果的影响第89-90页
     ·载液轮转速对抛光效果的影响第90-91页
     ·工件转速对抛光效果的影响第91-92页
     ·载液轮与工件之间间隙对抛光效果的影响第92页
   ·磁流变抛光工艺参数优化分析第92-94页
   ·本章小结第94-96页
第六章 总结与展望第96-99页
   ·研究工作总结第96-97页
   ·进一步的展望第97-99页
附录一第99-100页
附录二第100-101页
参考文献第101-106页
攻读硕士学位期间发表的学术论文和申请的专利第106-107页
致谢第107页

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