磁流变抛光工艺及其装备的关键技术研究与应用
摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-10页 |
目录 | 第10-14页 |
第一章 绪论 | 第14-26页 |
·引言 | 第14-15页 |
·光学零件的传统加工方法 | 第15-18页 |
·磁流变抛光技术的国内外发展及研究现状 | 第18-23页 |
·本课题的研究目的及意义 | 第23-24页 |
·论文的主要研究内容和章节安排 | 第24-26页 |
第二章 磁流变抛光设备的关键技术研究 | 第26-47页 |
·引言 | 第26页 |
·磁流变抛光机理与微观解释 | 第26-31页 |
·磁流变抛光原理 | 第26-28页 |
·传统抛光机理学说 | 第28-29页 |
·磁流变抛光的微观解释 | 第29-31页 |
·磁流变抛光设备的方案及结构设计 | 第31-37页 |
·磁流变抛光设备的基本要求 | 第31页 |
·磁流变抛光设备的对比分析 | 第31-32页 |
·磁流变抛光设备的方案设计 | 第32-34页 |
·磁流变抛光设备的结构设计 | 第34-37页 |
·磁流变抛光设备的结构实现 | 第37页 |
·磁流变抛光路径分析 | 第37-38页 |
·磁流变抛光中材料去除模型 | 第38-45页 |
·Preston方程 | 第38-40页 |
·磁流变抛光工艺及其优化控制方法 | 第40-41页 |
·磁流变抛光的材料去除模型 | 第41-42页 |
·磁流变抛光驻留时间的求解 | 第42-45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
第三章 磁路结构设计及有限元仿真 | 第47-59页 |
·引言 | 第47页 |
·磁路设计理论分析与结构优化 | 第47-51页 |
·磁路结构设计 | 第47-48页 |
·静态磁路的理论分析 | 第48-50页 |
·磁路结构优化 | 第50-51页 |
·空间磁场强度计算分析 | 第51-54页 |
·标量磁位分析 | 第51-53页 |
·抛光区域磁场强度计算分析 | 第53-54页 |
·磁场强度的有限元仿真与分析 | 第54-58页 |
·磁场有限元分析的理论基础 | 第54页 |
·磁路结构的有限元仿真 | 第54-56页 |
·磁场有限元仿真分析结果 | 第56-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第四章 磁流变抛光液体循环系统的设计与开发 | 第59-82页 |
·引言 | 第59页 |
·液体循环系统的研制 | 第59-64页 |
·液体循环系统的基本组成 | 第59-60页 |
·喷嘴的设计及磁场屏蔽 | 第60-62页 |
·液体收集器的设计 | 第62-63页 |
·液体循环系统动力装置的配置 | 第63-64页 |
·搅拌混合系统的设计 | 第64-73页 |
·搅拌混合系统的组成 | 第64-65页 |
·储液缸的设计 | 第65-66页 |
·搅拌混合机理及混合过程 | 第66-68页 |
·搅拌浆的设计 | 第68-69页 |
·搅拌功率的计算 | 第69-71页 |
·电机的选择 | 第71页 |
·搅拌轴的设计 | 第71-73页 |
·粘度控制系统的设计 | 第73-80页 |
·粘度与抛光特性关系 | 第73-74页 |
·粘度控制数学模型 | 第74-76页 |
·粘度控制系统硬件设计 | 第76-78页 |
·粘度控制系统设计 | 第78-80页 |
·本章小结 | 第80-82页 |
第五章 磁流变抛光工艺的实验研究 | 第82-96页 |
·引言 | 第82页 |
·磁流变抛光实验条件及抛光过程 | 第82-84页 |
·磁流变抛光工艺的参数选取 | 第84-85页 |
·磁流变抛光工艺参数对抛光效果的影响 | 第85-92页 |
·磁流变抛光实验方案设计及实验结果 | 第85-87页 |
·工艺参数显著性水平分析 | 第87-89页 |
·磁感应强度对抛光效果的影响 | 第89-90页 |
·载液轮转速对抛光效果的影响 | 第90-91页 |
·工件转速对抛光效果的影响 | 第91-92页 |
·载液轮与工件之间间隙对抛光效果的影响 | 第92页 |
·磁流变抛光工艺参数优化分析 | 第92-94页 |
·本章小结 | 第94-96页 |
第六章 总结与展望 | 第96-99页 |
·研究工作总结 | 第96-97页 |
·进一步的展望 | 第97-99页 |
附录一 | 第99-100页 |
附录二 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-106页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文和申请的专利 | 第106-107页 |
致谢 | 第107页 |