兰姆波线性阵列板结构复合成像无损检测方法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·国内外研究现状 | 第9-12页 |
| ·单模态 Lamb 波检测 | 第9-10页 |
| ·阵列成像技术 | 第10-11页 |
| ·缺陷识别方法研究 | 第11-12页 |
| ·课题来源及工作内容 | 第12-14页 |
| 第2章 频率调谐兰姆波模态控制技术研究 | 第14-24页 |
| ·基本理论 | 第14-19页 |
| ·兰姆波波动方程及其解 | 第14-15页 |
| ·应力边界条件 | 第15-16页 |
| ·边界条件代入解特定解 | 第16-17页 |
| ·位移和应力表达式 | 第17-19页 |
| ·实验验证 | 第19-22页 |
| ·实验装置 | 第19页 |
| ·实验结果 | 第19-21页 |
| ·粘接剂的影响 | 第21-22页 |
| ·传感器布置位置的影响 | 第22页 |
| ·本章小结 | 第22-24页 |
| 第3章 兰姆波线性阵列参数优化设计 | 第24-34页 |
| ·阵元类型 | 第25-26页 |
| ·阵元尺寸 | 第26-28页 |
| ·阵元数量 | 第28-29页 |
| ·阵元间距 | 第29-30页 |
| ·阵列各方向聚焦性能研究 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-34页 |
| 第4章 兰姆波线性阵列复合成像检测方法研究 | 第34-48页 |
| ·时延成像基本原理 | 第34-35页 |
| ·成像方法优化设计 | 第35-44页 |
| ·幅度变迹原理 | 第35-37页 |
| ·相位及极性一致处理技术 | 第37-42页 |
| ·复合成像技术 | 第42-44页 |
| ·复合成像技术在阵列仿真数据中的应用 | 第44-46页 |
| ·缺陷散射场特征分析 | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第5章 兰姆波线性阵列检测实验研究 | 第48-66页 |
| ·实验系统搭建 | 第48-50页 |
| ·激励信号的选择 | 第50-51页 |
| ·三缺陷实验结果 | 第51-56页 |
| ·单阵列检测 | 第51-53页 |
| ·双阵列检测 | 第53-54页 |
| ·缺陷的散射特征与方向估算 | 第54-56页 |
| ·六缺陷实验结果 | 第56-64页 |
| ·单阵列检测 | 第56-59页 |
| ·双阵列检测 | 第59-62页 |
| ·缺陷的散射特征与方向估算 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
