| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·薄膜的生长 | 第14-15页 |
| ·超硬薄膜材料介绍 | 第15-20页 |
| ·本征硬质薄膜 | 第15页 |
| ·纳米多层膜 | 第15-18页 |
| ·纳米复合膜 | 第18-20页 |
| ·摩擦磨损过程的影响因素和研究方法 | 第20-23页 |
| ·摩擦过程的影响因素及种类 | 第20-21页 |
| ·物体接触与实际接触面积 | 第21页 |
| ·磨损过程的主要类型 | 第21-23页 |
| ·选题意义与研究内容 | 第23-25页 |
| ·选题意义 | 第23-24页 |
| ·研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征方法 | 第25-33页 |
| ·薄膜的制备方法与实验设备 | 第25-28页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第25-26页 |
| ·实验设备 | 第26-27页 |
| ·薄膜基片处理方法 | 第27-28页 |
| ·薄膜检测方法与检测设备 | 第28-33页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
| ·能量色散谱仪 | 第29页 |
| ·纳米压痕仪和划痕仪 | 第29-32页 |
| ·高温摩擦磨损测试仪 | 第32-33页 |
| 第3章 磁控溅射 W-N 薄膜的微结构、机械性能和摩擦学性能 | 第33-44页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验方法 | 第33-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-43页 |
| ·W-N 薄膜沉积速率随氮气含量的变化 | 第35-36页 |
| ·W-N 薄膜的显微结构 | 第36-38页 |
| ·W-N 薄膜的硬度和弹性模量 | 第38-39页 |
| ·W-N 薄膜的膜基结合力 | 第39-40页 |
| ·W-N 薄膜的摩擦学性能 | 第40-43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 第4章 W-C-N 纳米复合薄膜的性能研究 | 第44-56页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·实验材料及方法 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-55页 |
| ·W-C-N 纳米复合薄膜的微结构 | 第46-47页 |
| ·W-C-N 纳米复合薄膜的力学性能 | 第47-48页 |
| ·W-C-N 纳米复合薄膜的摩擦学性能 | 第48-55页 |
| ·结论 | 第55-56页 |
| 第5章 基体负偏压对 W-C-N 薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第56-71页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·实验方法 | 第57-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-70页 |
| ·负偏压对 W-C-N 薄膜微结构的影响 | 第59页 |
| ·负偏压对 W-C-N 薄膜硬度和弹性模量的影响 | 第59-60页 |
| ·负偏压对 W-C-N 薄膜表面形貌的影响 | 第60-62页 |
| ·负偏压对 W-C-N 薄膜基体温度的影响 | 第62页 |
| ·负偏压对 W-C-N 薄膜膜基结合力的影响 | 第62-63页 |
| ·负偏压对 W-C-N 薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第63-70页 |
| ·结论 | 第70-71页 |
| 第6章 纳米多层膜 Ti-Al-Si-N/W-N 的结构及性能研究 | 第71-83页 |
| ·引言 | 第71-72页 |
| ·实验材料及方法 | 第72-73页 |
| ·薄膜的制备 | 第72-73页 |
| ·薄膜的表征 | 第73页 |
| ·实验结果 | 第73-82页 |
| ·Ti-Al-Si-N/W-N 多层膜的结构 | 第73-75页 |
| ·Ti-Al-Si-N/W-N 多层膜的硬度和弹性模量 | 第75-77页 |
| ·Ti-Al-Si-N/W-N 多层膜的摩擦磨损性能 | 第77-82页 |
| ·结论 | 第82-83页 |
| 结论 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
