| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·薄膜发展概述 | 第13页 |
| ·常见的氮化物膜 | 第13-16页 |
| ·单一类氮化物薄膜 | 第14页 |
| ·多元化氮化物薄膜 | 第14-16页 |
| ·梯度化氮化物薄膜 | 第16页 |
| ·真空离子镀技术概述 | 第16-19页 |
| ·离子镀技术种类和发展 | 第16-17页 |
| ·电弧离子镀技术概述 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射离子镀技术概述 | 第18-19页 |
| ·AlTiN薄膜国内外研究现状 | 第19-20页 |
| ·国外AlTiN薄膜研究现状 | 第19-20页 |
| ·国内AlTiN薄膜研究现状 | 第20页 |
| ·本文的研究目的、意义和内容 | 第20-22页 |
| ·研究目的 | 第20页 |
| ·研究意义 | 第20-21页 |
| ·研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验设备与方法 | 第22-26页 |
| ·实验设备简介 | 第22页 |
| ·实验材料的制备和处理 | 第22-23页 |
| ·实验流程 | 第23页 |
| ·镀膜工艺参数的设定 | 第23页 |
| ·薄膜的测试设备 | 第23-24页 |
| ·XP-2台阶仪 | 第23-24页 |
| ·XP纳米压痕仪 | 第24页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第24页 |
| ·X射线衍射仪 | 第24页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第24-26页 |
| ·薄膜的表面形貌分析 | 第24页 |
| ·XRD物相检测 | 第24-25页 |
| ·薄膜的硬度和膜基结合力 | 第25-26页 |
| 第三章 多弧离子镀AlTiN薄膜的制备、结构与性能研究 | 第26-35页 |
| ·多弧离子镀AlTiN薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·多弧离子镀AlTiN薄膜的表征与分析 | 第27-33页 |
| ·薄膜的厚度 | 第27-28页 |
| ·薄膜的微观结构 | 第28-30页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第30-32页 |
| ·薄膜的硬度 | 第32-33页 |
| ·膜基结合力 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第四章 复合离子镀AlTiN薄膜的制备、结构与性能分析 | 第35-56页 |
| ·复合离子镀AlTiN薄膜的制备 | 第35-37页 |
| ·工艺流程 | 第35页 |
| ·参数设定 | 第35-37页 |
| ·复合离子镀AlTiN薄膜的结构研究 | 第37-41页 |
| ·复合离子镀AlTiN薄膜的X射线衍射(XRD)实验 | 第37-38页 |
| ·XRD分析 | 第38-41页 |
| ·复合离子镀AlTiN薄膜的表面形貌 | 第41-48页 |
| ·复合离子镀AlTiN薄膜的膜厚 | 第41-42页 |
| ·复合离子镀AlTiN薄膜的SEM实验及分析 | 第42-48页 |
| ·复合离子镀AlTiN薄膜的成分分析 | 第48-49页 |
| ·N_2流量对薄膜的成分影响 | 第48-49页 |
| ·偏压对薄膜的成分影响 | 第49页 |
| ·复合离子镀AlTiN薄膜的力学性能 | 第49-55页 |
| ·硬度及弹性模量 | 第49-53页 |
| ·膜基结合力 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 结论与展望 | 第56-58页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| ·实验结果总结 | 第56页 |
| ·不足之处 | 第56-57页 |
| ·讨论与展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65-66页 |
| 硕士在读期间获得的奖励 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
