| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 ZnO薄膜的概况及主要应用 | 第11-13页 |
| 1.2.1 ZnO的基本结构和性质 | 第11-12页 |
| 1.2.2 ZnO的主要应用 | 第12-13页 |
| 1.3 石墨烯概述及主要应用 | 第13-15页 |
| 1.3.1 石墨烯的基本结构和性质 | 第13-14页 |
| 1.3.2 石墨烯的主要应用 | 第14-15页 |
| 1.4 ZnO/石墨烯复合材料的研究概述 | 第15页 |
| 1.5 本文的主要工作与研究内容 | 第15-18页 |
| 第二章 实验方案与样品表征方法 | 第18-28页 |
| 2.1 制备石墨烯的制备方法及工艺流程 | 第18-21页 |
| 2.1.1 石墨烯的制备方法 | 第18-19页 |
| 2.1.2 主要实验设备 | 第19-20页 |
| 2.1.3 主要工艺流程 | 第20-21页 |
| 2.2 制备ZnO的制备方法及工艺流程 | 第21-25页 |
| 2.2.1 ZnO的制备的方法 | 第21-23页 |
| 2.2.2 主要实验设备 | 第23-24页 |
| 2.2.3 主要工艺流程 | 第24-25页 |
| 2.3 样品的结构与性能表征方法 | 第25-27页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第25页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS) | 第25-26页 |
| 2.3.3 拉曼光谱仪 | 第26页 |
| 2.3.4 光致发光(PL)光谱仪 | 第26-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 CVD法在Cu片上生长石墨烯及其工艺优化 | 第28-36页 |
| 3.1 对背景信号的说明 | 第28页 |
| 3.2 石墨烯生长条件的探索 | 第28-34页 |
| 3.2.1 不同温度条件下生长石墨烯 | 第28-30页 |
| 3.2.2 不同降温速率生长石墨烯 | 第30-32页 |
| 3.2.3 不同碳源通入时间生长石墨烯 | 第32-34页 |
| 3.3 表面形貌分析 | 第34-35页 |
| 3.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 石墨烯上生长ZnO薄膜及其工艺优化 | 第36-54页 |
| 4.1 工作气压对制备ZnO薄膜的影响 | 第36-40页 |
| 4.2 射频溅射功率对制备ZnO薄膜的影响 | 第40-44页 |
| 4.3 衬底温度对制备ZnO薄膜的影响 | 第44-49页 |
| 4.4 氩氧流量比对制备ZnO薄膜的影响 | 第49-53页 |
| 4.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 ZnO/石墨烯复合材料的表征及光学性能分析 | 第54-70页 |
| 5.1 优化工艺下ZnO与石墨烯的复合 | 第54-57页 |
| 5.1.1 拉曼光谱表征 | 第54-55页 |
| 5.1.2 XRD对比 | 第55-56页 |
| 5.1.3 SEM对比 | 第56-57页 |
| 5.1.4 光学性能测试 | 第57页 |
| 5.2 ZnO薄膜与不同厚度的石墨烯的复合 | 第57-63页 |
| 5.2.1 拉曼光谱表征 | 第58-59页 |
| 5.2.2 XRD表征 | 第59-60页 |
| 5.2.3 SEM表征 | 第60-62页 |
| 5.2.4 复合材料的光学性能测试 | 第62-63页 |
| 5.3 不同厚度的ZnO薄膜与石墨烯的复合 | 第63-69页 |
| 5.3.1 拉曼光谱表征 | 第63-64页 |
| 5.3.2 XRD表征 | 第64-65页 |
| 5.3.3 SEM表征 | 第65-68页 |
| 5.3.4 复合材料的光学性能测试 | 第68-69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 6.1 本文工作总结 | 第70-71页 |
| 6.2 今后工作展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |