第1章 绪论 | 第1-42页 |
·抗反射概述 | 第10-15页 |
·表面抗反射的种类 | 第11页 |
·单层膜法 | 第11-12页 |
·多层膜法 | 第12-13页 |
·微结构法 | 第13-15页 |
·抗反射微结构的构筑 | 第15-27页 |
·二维抗反射微结构的构筑 | 第16-25页 |
·电子束刻蚀 | 第16-17页 |
·自组装有序纳米球作为构筑掩膜 | 第17-19页 |
·金属纳米粒子做掩膜 | 第19-20页 |
·聚合物结构做掩膜 | 第20-21页 |
·贵金属纳米粒子催化刻蚀法 | 第21-23页 |
·无掩膜刻蚀法 | 第23-25页 |
·三维抗反射结构的构筑 | 第25-27页 |
·抗反射结构的应用 | 第27-30页 |
·在有机发光器件上的应用 | 第27-28页 |
·在太阳能电池上的应用 | 第28-29页 |
·在光学传感器上的应用 | 第29-30页 |
·本论文的研究思路及主要研究内容 | 第30-32页 |
参考文献 | 第32-42页 |
第2章 大面积制备超疏水抗反射微纳米复合硅表面结构 | 第42-66页 |
·引言 | 第42-44页 |
·实验部分 | 第44-46页 |
·试剂与仪器 | 第44页 |
·微纳复合硅表面结构的制备 | 第44-45页 |
·实验步骤 | 第45-46页 |
·硅锥结构的制备 | 第45-46页 |
·银纳米粒子的沉积 | 第46页 |
·银催化刻蚀 | 第46页 |
·将硅表面结构转移到聚合物表面 | 第46页 |
·结果与讨论 | 第46-61页 |
·硅锥结构的制备 | 第46-49页 |
·硅锥表面银纳米粒子的沉积 | 第49-51页 |
·银纳米粒子催化刻蚀硅,制备微纳复合硅锥结构 | 第51-55页 |
·微纳复合结构的抗反射性能 | 第55-57页 |
·微纳复合结构的超疏水性能 | 第57-60页 |
·翻制聚合物微纳复合疏水表面结构 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-66页 |
第3章 抗反射纳米异质结的构筑及其应用 | 第66-92页 |
·引言 | 第66-67页 |
·实验部分 | 第67-70页 |
·试剂与仪器 | 第67-68页 |
·三维 ZnO/Si 微纳复合抗反射结构的制备 | 第68页 |
·实验步骤 | 第68-70页 |
·SU8 点阵结构的制备 | 第68-69页 |
·SiO_2点阵结构的制备 | 第69页 |
·硅锥点阵结构的制备 | 第69页 |
·在硅锥表面制备 ZnO 纳米棒 | 第69-70页 |
·结果与讨论 | 第70-85页 |
·SU8 点阵结构的制备 | 第70-71页 |
·刻蚀制备二氧化硅点阵结构 | 第71-72页 |
·硅锥结构的制备 | 第72-73页 |
·硅锥表面氧化锌纳米棒的制备 | 第73-77页 |
·ZnO/Si 微纳复合异质结结构的抗反射性能研究 | 第77-78页 |
·光电性能测试 | 第78-80页 |
·催化降解染料分子 | 第80-83页 |
·ZnO/Si 微纳复合结构的表面清洁性质 | 第83-85页 |
·本章小结 | 第85-87页 |
参考文献 | 第87-92页 |
第4章 Au/TiO_2/Si 三维复合结构的制备及其催化性能研究 | 第92-113页 |
·引言 | 第92-93页 |
·实验部分 | 第93-95页 |
·试剂与仪器 | 第93-94页 |
·三维 TiO_2/Si 微纳复合抗反射结构的制备 | 第94-95页 |
·实验步骤 | 第95页 |
·SU8 点阵结构的制备 | 第95页 |
·SiO_2点阵结构的制备 | 第95页 |
·硅锥点阵结构的制备 | 第95页 |
·在硅锥表面制备 TiO_2纳米棒 | 第95页 |
·结果与讨论 | 第95-104页 |
·TiO_2纳米棒结构的制备 | 第95-98页 |
·TiO_2/Si 复合结构的抗反射性能检测 | 第98-100页 |
·TiO_2纳米棒表面沉积 Au 纳米粒子 | 第100-102页 |
·催化降解染料分子 | 第102-104页 |
·本章小结 | 第104-106页 |
参考文献 | 第106-113页 |
攻读博士学位期间所发表的论文 | 第113-115页 |
作者简历 | 第115-116页 |
致谢 | 第116-118页 |
摘要 | 第118-120页 |
Abstract | 第120-122页 |