| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-15页 |
| ·多层膜的研究背景 | 第8-9页 |
| ·多层膜的力学性能的研究进展 | 第9-10页 |
| ·多层膜的硬度增强机制理论 | 第10-12页 |
| ·复合强化理论 | 第10-11页 |
| ·Hall-Petch强化机理 | 第11-12页 |
| ·交变应力场理论 | 第12页 |
| ·硬质多层膜的应用和发展方向 | 第12-13页 |
| ·本论文工作的主要目的和研究重点 | 第13-15页 |
| 2 硬质薄膜的制备和分析方法 | 第15-25页 |
| ·硬质膜的制备方法 | 第15-18页 |
| ·射频反应磁控溅射原理 | 第15-16页 |
| ·JGP450型高真空磁控溅射设备 | 第16-18页 |
| ·Si衬底处理方法 | 第18页 |
| ·硬质多层膜的分析方法 | 第18-25页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第18-20页 |
| ·薄膜X射线衍射仪(XRD) | 第20-21页 |
| ·X射线能量色散分析(EDX) | 第21-22页 |
| ·纳米硬度压痕仪 | 第22-25页 |
| 3 沉积率对ZrN单层膜织构及其硬度的影响 | 第25-32页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·ZrN薄膜制备 | 第25-26页 |
| ·ZrN薄膜的沉积率 | 第26页 |
| ·ZrN薄膜的晶体结构 | 第26-28页 |
| ·ZrN薄膜的织构的形成机制 | 第28-29页 |
| ·ZrN薄膜的硬度表征 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 4 ZrN层沉积速率对TiN/ZrN多层膜结构和硬度的影响 | 第32-47页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验方法 | 第32-33页 |
| ·TiN/ZrN多层膜的结构表征 | 第33-39页 |
| ·TiN/ZrN多层膜调制周期的测定 | 第33-36页 |
| ·TiN/ZrN多层膜调制结构对薄膜生长行为的影响 | 第36-39页 |
| ·力学性能表征 | 第39-46页 |
| ·TiN/ZrN多层膜调制结构对薄膜力学性能的影响 | 第39-42页 |
| ·TiN/ZrN多层膜的硬化机制探讨 | 第42-46页 |
| ·本章小节 | 第46-47页 |
| 5 TiN/TaN/ZrN多层膜的结构和力学性能 | 第47-53页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·实验方法 | 第47-48页 |
| ·TiN/TaN/ZrN多层膜的结构表征 | 第48-51页 |
| ·TiN/TaN/ZrN多层膜的硬度与弹性模量 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
