| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| ·论文的选题背景 | 第8-15页 |
| ·CMP(Chemical Mechanical Polishing)技术概述 | 第8-10页 |
| ·CMP机床的分类及其主要特点 | 第10-11页 |
| ·CMP机床的国内外发展现状 | 第11-13页 |
| ·CMP设备控制系统的国内外发展现状 | 第13-15页 |
| ·课题的选题背景及来源 | 第15-16页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第16-18页 |
| ·三工位CMP设备控制系统的硬件设计和开发 | 第16页 |
| ·三工位CMP设备控制系统的软件设计和开发 | 第16页 |
| ·三工位CMP控制系统实验台的搭建及调试 | 第16-18页 |
| 2 三工位CMP设备控制系统硬件设计 | 第18-42页 |
| ·三工位CMP设备方案概述及控制系统硬件模块划分 | 第18-22页 |
| ·三工位CMP控制系统硬件关键单元的设计 | 第22-42页 |
| ·抛光压力的监测和控制单元设计 | 第22-34页 |
| ·真空吸附和反冲单元设计 | 第34-36页 |
| ·抛光头和抛光盘动作控制单元设计 | 第36-40页 |
| ·电磁阀的互锁的实现 | 第40-42页 |
| 3 三工位CMP设备控制系统的软件设计 | 第42-72页 |
| ·三工位CMP设备控制系统软件总体设计 | 第42-43页 |
| ·三工位CMP控制软件开发的关键技术 | 第43-64页 |
| ·基于UML的三工位CMP控制系统设计与实现 | 第43-48页 |
| ·面向对象的程序设计 | 第48-52页 |
| ·三工位设备控制软件的模块规划及可视化技术 | 第52-59页 |
| ·多线程 | 第59-60页 |
| ·定时器的选择 | 第60-63页 |
| ·动态链接库的使用 | 第63-64页 |
| ·三工位CMP控制软件关键模块的开发 | 第64-71页 |
| ·运动控制模块 | 第64-65页 |
| ·数据采集模块 | 第65-67页 |
| ·数据处理模块 | 第67-69页 |
| ·实时压力曲线绘制模块 | 第69-70页 |
| ·数据后处理模块 | 第70-71页 |
| ·系统软件的人机界面介绍 | 第71-72页 |
| ·主界面 | 第71页 |
| ·参数设置模块 | 第71-72页 |
| 4 三工位CMP设备控制系统试验装置的搭建与调试 | 第72-75页 |
| ·硬件与软件调试 | 第73页 |
| ·调试结果 | 第73-75页 |
| ·单个工位的调试结果 | 第73-74页 |
| ·三工位联合模拟调试的结果 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |