| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·磁控溅射基本理论和基本知识 | 第12-14页 |
| ·辉光放电现象 | 第12-13页 |
| ·磁控溅射镀膜的基本原理 | 第13-14页 |
| ·平面磁控溅射的发展 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射相关的计算与模拟 | 第15-20页 |
| ·现有的典型靶设计 | 第15-17页 |
| ·磁场分布的计算与优化 | 第17-19页 |
| ·溅射过程中带电粒子运动的计算 | 第19-20页 |
| ·论文的主要内容 | 第20-22页 |
| ·论文的主要工作 | 第20-21页 |
| ·论文的基本结构 | 第21-22页 |
| 第二章 计算的理论背景和方法 | 第22-30页 |
| ·磁控溅射相关的电磁场理论 | 第22-26页 |
| ·麦克斯韦电磁场理论 | 第22-24页 |
| ·有限元及有限差分法 | 第24-26页 |
| ·计算软件介绍 | 第26-28页 |
| ·Comsol 3.2a | 第26-27页 |
| ·Matlab介绍 | 第27-28页 |
| ·计算方法 | 第28页 |
| ·几何模型的建立 | 第28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 第三章 圆形平面靶磁场结构的优化计算 | 第30-48页 |
| ·磁场模拟计算的方法 | 第30-33页 |
| ·Comsol 3.2a建立磁场模型的基本操作 | 第30-32页 |
| ·磁场计算后数据的引出 | 第32-33页 |
| ·程序 | 第33页 |
| ·传统磁场结构的计算 | 第33-36页 |
| ·计算 | 第33-35页 |
| ·计算结果分析 | 第35-36页 |
| ·基于传统磁场结构的优化 | 第36-40页 |
| ·剩磁强度变化时磁场强度比较 | 第36-37页 |
| ·软磁体高度变化时磁场强度比较 | 第37-38页 |
| ·南北极磁铁高度变化时磁场强度比较 | 第38-39页 |
| ·南北极磁体宽变化对磁场分布的影响 | 第39-40页 |
| ·外加软磁体对靶材表面磁场分布的优化 | 第40-41页 |
| ·外加单磁环对磁场分布优化 | 第41-44页 |
| ·磁环设置为南极时,内径对靶材表面磁场强度曲线的影响 | 第41-42页 |
| ·磁环设置为南极时,y方向位置变化对靶面磁场强度的影响 | 第42页 |
| ·磁环设置为北极,内径对靶材表面磁场强度曲线的影响 | 第42-43页 |
| ·磁环设置为北极时,y方向位置变化对靶面磁场强度的影响 | 第43-44页 |
| ·外加双磁铁环对磁场分布进行优化 | 第44-46页 |
| ·磁环剩磁强度变化对靶面磁场优化的影响 | 第44-45页 |
| ·磁环高度变化对靶面磁场优化的影响 | 第45-46页 |
| ·磁环宽度变化对靶面磁场优化的影响 | 第46页 |
| ·外加双磁环时,溅射区域内部磁场强度分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 荷电粒子束流在电磁场中运动轨迹的计算与模拟 | 第48-58页 |
| ·Monte Carlo基本理论 | 第48-49页 |
| ·荷电粒子在电磁场中的跟踪方法 | 第49-54页 |
| ·随机数 | 第49页 |
| ·电子的平均自由程 | 第49-50页 |
| ·电子在恒定电磁场中的受力分析和运动分析 | 第50-51页 |
| ·碰撞过程处理 | 第51-53页 |
| ·同时跟踪大量粒子的处理方法 | 第53页 |
| ·具体研究方法 | 第53-54页 |
| ·单电子在电磁场中运动分析 | 第54-56页 |
| ·束流分布 | 第56-57页 |
| ·电子分布特点 | 第56页 |
| ·离子分布特点 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-60页 |
| 附:磁场模拟计算程序示例 | 第60-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67页 |
