| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-33页 |
| ·非线性光学与非线性光学材料的发展 | 第14-26页 |
| ·非线性光学效应产生的原理 | 第14-15页 |
| ·非线性光学材料的定义 | 第15-16页 |
| ·非线性光学材料的应用 | 第16-17页 |
| ·非线性材料的分类 | 第17-23页 |
| ·无机非线性光学晶体材料 | 第18-19页 |
| ·有机非线性光学晶体材料 | 第19-20页 |
| ·金属有机化合物类非线性光学材料 | 第20-21页 |
| ·高分子非线性光学材料 | 第21-22页 |
| ·有机无机复合非线性光学材料 | 第22页 |
| ·非线性光学玻璃 | 第22-23页 |
| ·有机非线性光学晶体DAST的研究进展 | 第23-26页 |
| ·DAST物理与化学性质 | 第23-24页 |
| ·DAST薄膜生长 | 第24-25页 |
| ·DAST晶体的生长 | 第25页 |
| ·DAST·H_2O晶体 | 第25-26页 |
| ·单分子磁体的研究背景与研究进展 | 第26-30页 |
| ·单分子磁体的定义与条件 | 第26-27页 |
| ·研究单分子磁体的意义 | 第27-28页 |
| ·常见单分子磁体的种类和结构 | 第28-29页 |
| ·研究单分子磁体的方法 | 第29-30页 |
| ·晶体材料的制备方法 | 第30-32页 |
| ·晶体结晶条件 | 第30页 |
| ·溶液法生长晶体 | 第30-31页 |
| ·熔融法制备晶体 | 第31页 |
| ·影响晶体的生长因素 | 第31-32页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第32-33页 |
| 第二章 非线性光学晶体DAST的制备与性能研究 | 第33-59页 |
| ·实验部分 | 第33-36页 |
| ·试剂及仪器 | 第33-35页 |
| ·实验方法 | 第35-36页 |
| ·斜板法制备DAST晶体的实验步骤 | 第35-36页 |
| ·籽晶法制备DAST晶体的实验步骤 | 第36页 |
| ·在薄液层中制备DAST晶体的实验步骤 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-59页 |
| ·非线性光学晶体DAST的制备方法研究 | 第36-46页 |
| ·斜板法制备DAST晶体的原理及影响因素 | 第36-39页 |
| ·籽晶法制备DAST晶体的原理及影响因素 | 第39-45页 |
| ·在薄液层中制备DAST晶体的尝试 | 第45页 |
| ·DAST晶体生长方法的小结 | 第45-46页 |
| ·DAST晶体的表征和性能研究 | 第46-59页 |
| ·DAST晶体粉木X射线衍射研究 | 第46-48页 |
| ·DAST光学性能研究 | 第48-51页 |
| ·DAST热稳定性研究 | 第51-56页 |
| ·DAST晶体拉曼光谱研究 | 第56-59页 |
| 第三章 单分子磁体Ni_4的制备与表征 | 第59-67页 |
| ·实验部分 | 第59-60页 |
| ·主要试剂与仪器 | 第59-60页 |
| ·Ni_4晶体的制备方法 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-67页 |
| ·制备条件对Ni_4晶体的影响 | 第60-62页 |
| ·Ni_4单晶的晶体结构和分子结构 | 第62-64页 |
| ·Ni_4的低温磁性表征 | 第64-67页 |
| 第四章 单分子磁体Mn_(12)-AC的制备与溶解性 | 第67-72页 |
| ·实验部分 | 第67-68页 |
| ·试剂与仪器 | 第67页 |
| ·实验方法 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-72页 |
| ·反应原理 | 第68-69页 |
| ·Mn_(12)-AC晶体制备条件的选择 | 第69-71页 |
| ·Mn_(12)-AC的溶解性研究 | 第71-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| ·本实验所得结论 | 第72页 |
| ·本实验的难点 | 第72-73页 |
| ·本实验的创新点 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 附录 Ni_4晶体结构数据 | 第81-88页 |
| 感谢 | 第88-89页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第89-90页 |
| 作者和导师简介 | 第90-91页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第91-92页 |