| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·薄膜光学的发展前景 | 第7-8页 |
| ·激光高反膜的生产背景以及应用价值 | 第8页 |
| ·任务的提出 | 第8-9页 |
| ·方案的确定 | 第9-10页 |
| 第二章 膜系设计的理论基础 | 第10-29页 |
| ·单层介质薄膜 | 第10-13页 |
| ·多层介质膜 | 第13页 |
| ·多层介质高反射膜 | 第13-18页 |
| ·低损耗激光反射镜的设计 | 第18-26页 |
| ·有关抗激光损坏阈值的分析 | 第26-27页 |
| ·抗激光光学薄膜膜系的理论分析 | 第27-29页 |
| 第三章 薄膜技术 | 第29-36页 |
| ·薄膜制备技术 | 第29页 |
| ·结构特性 | 第29-31页 |
| ·影响工艺的因素 | 第31-33页 |
| ·损伤阈值 | 第33-36页 |
| 第四章 镀膜工艺的优化 | 第36-48页 |
| ·膜料的选择 | 第36-38页 |
| ·膜系的确定 | 第38-39页 |
| ·薄膜基底的表面粗糙度与洁净度 | 第39-40页 |
| ·试验及测试设备 | 第40-41页 |
| ·镀制薄膜的具体过程 | 第41-46页 |
| ·注意事项 | 第46-48页 |
| 第五章 测试结果与分析 | 第48-50页 |
| 第六章 总结 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-53页 |