静电雾化沉积制备薄膜材料的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·静电喷雾技术 | 第9-12页 |
| ·静电喷雾技术概述 | 第9-10页 |
| ·静电喷雾实验研究 | 第10-12页 |
| ·纳米薄膜材料制备 | 第12-13页 |
| ·静电雾化制备薄膜技术研究概况 | 第13页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第13-16页 |
| 第二章 静电雾化技术的理论研究 | 第16-29页 |
| ·静电雾化基础理论 | 第16-18页 |
| ·雾滴荷电机理 | 第16-17页 |
| ·雾滴破碎机理 | 第17-18页 |
| ·毛细管静电雾化过程 | 第18-22页 |
| ·射流区 | 第19-20页 |
| ·波纹区 | 第20-21页 |
| ·雾滴区 | 第21-22页 |
| ·静电雾化沉积性能评定参数 | 第22-24页 |
| ·荷电两相流输运过程 | 第24-28页 |
| ·单颗粒荷电雾滴的受力状况 | 第25-27页 |
| ·荷电气液两相流动的基本方程 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 静电雾化的试验研究与分析 | 第29-46页 |
| ·实验方案 | 第29-31页 |
| ·有关充电系统的选择 | 第30-31页 |
| ·供电系统、供液系统 | 第31页 |
| ·实验现象及结果分析 | 第31-34页 |
| ·雾化过程呈现出的雾化模式 | 第31-33页 |
| ·水的静电雾化模式分布图 | 第33-34页 |
| ·不同雾化模式下粒径大小的研究分析 | 第34-44页 |
| ·相位多普勒测试技术 | 第34-35页 |
| ·PDA系统的测量原理 | 第35-40页 |
| ·PDA静电雾化测试结果与分析 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 静电雾化沉积制备薄膜技术的研究 | 第46-68页 |
| ·纳米TiO_2薄膜的制备方法 | 第46-50页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第46-47页 |
| ·化学气相沉积法 | 第47-48页 |
| ·掺杂纳米二氧化钛陶瓷膜的制备法 | 第48-49页 |
| ·纳米TiO_2薄膜的制备应用举例 | 第49-50页 |
| ·喷雾热解法 | 第50-53页 |
| ·静电雾化沉积制备薄膜实验装置 | 第53-55页 |
| ·实验试剂和设备 | 第54页 |
| ·实验参数 | 第54-55页 |
| ·毛细管静电雾化流场的测量和分析 | 第55-60页 |
| ·粒子图像速度场测试系统 | 第55-57页 |
| ·PIV雾化测试结果与分析 | 第57-60页 |
| ·雾滴带电量的测量以及电荷衰减因素的分析 | 第60-63页 |
| ·荷质比的测量 | 第60-62页 |
| ·荷电雾滴电荷衰减规律研究 | 第62-63页 |
| ·不同充电电压下的沉积形态分析 | 第63-65页 |
| ·不同基底温度下的沉积形态分析 | 第65-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论和进一步研究展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第74页 |
