摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 文献综述 | 第10-30页 |
·引言 | 第10-12页 |
·合成甲醇的工业发展概况 | 第11-12页 |
·我国甲醇工业发展概况 | 第12页 |
·合成甲醇反应热力学分析 | 第12-17页 |
·合成甲醇反应的热力学分析 | 第12-15页 |
·CO加氢合成甲醇的平衡转化率 | 第15-17页 |
·铜基甲醇合成催化剂研究进展 | 第17-24页 |
·国内外合成甲醇催化剂研究进展 | 第18-20页 |
·铜基甲醇合成催化剂的制备方法 | 第20-22页 |
·助剂对铜基甲醇合成催化剂的影响 | 第22-23页 |
·目前国内甲醇催化剂存在的问题 | 第23-24页 |
·铜基合成甲醇催化剂活性中心分析 | 第24-25页 |
·Cu~0是活性中心 | 第24页 |
·Cu~+为催化剂的活性中心 | 第24-25页 |
·Cu~0-Cu~+构成合成醇的活性中心 | 第25页 |
·甲醇合成反应机理 | 第25-27页 |
·CO_2的作用 | 第25-26页 |
·表面氧的作用 | 第26页 |
·甲醇合成反应机理 | 第26-27页 |
·选题意义及研究内容 | 第27-30页 |
·选题意义 | 第27-29页 |
·研究目的及内容 | 第29-30页 |
第二章 实验部分 | 第30-42页 |
·化学试剂及仪器设备 | 第30-34页 |
·原料及化学试剂 | 第30页 |
·实验仪器 | 第30-31页 |
·浆态床反应装置 | 第31-34页 |
·催化剂制备 | 第34页 |
·催化剂活性评价 | 第34-35页 |
·产物分析 | 第35-40页 |
·结果计算 | 第40页 |
·催化剂表征 | 第40-42页 |
·比表面积和孔结构 | 第40页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第40页 |
·X-射线光电子能谱(XPS) | 第40-41页 |
·程序升温还原(TPR) | 第41页 |
·程序升温脱附(H_2-TPD) | 第41-42页 |
第三章 浆态床合成甲醇工艺条件的优化 | 第42-52页 |
·反应温度的影响 | 第42-44页 |
·反应压力的影响 | 第44-45页 |
·质量空速的影响 | 第45-46页 |
·H_2/CO的影响 | 第46-47页 |
·搅拌转速及形式的影响 | 第47-49页 |
·合成气中CO_2的影响 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-52页 |
第四章 Cu/ZnO/Al_2O_3催化剂性能的研究 | 第52-78页 |
·Cu/Zn比对催化剂性能的影响 | 第52-59页 |
·催化剂活性随Cu/Zn比的变化 | 第52-53页 |
·Cu/Zn比对催化剂物相结构的影响 | 第53-55页 |
·Cu/Zn比对催化剂还原行为的影响 | 第55-58页 |
·Cu/Zn比对催化剂表面结构的影响 | 第58-59页 |
·Al含量对催化剂性能的影响 | 第59-61页 |
·沉淀方法对催化剂性能的影响 | 第61-64页 |
·沉淀方法对催化剂物理及物相结构的影响 | 第61-63页 |
·沉淀方法对催化剂活性的影响 | 第63-64页 |
·老化时间对催化剂性能的影响 | 第64-67页 |
·焙烧温度对催化剂性能的影响 | 第67-69页 |
·焙烧时间对催化剂性能的影响 | 第69-71页 |
·助剂Zr对催化剂性能的影响 | 第71-75页 |
·催化剂制备 | 第71页 |
·Zr对催化剂物理及物相结构的影响 | 第71-72页 |
·Zr对催化剂H_2吸附能力的影响 | 第72-73页 |
·Zr含量对催化剂活性的影响 | 第73-74页 |
·Zr对催化剂还原行为的影响 | 第74-75页 |
·本章小结 | 第75-78页 |
第五章 总结 | 第78-80页 |
·结论 | 第78-79页 |
·建议 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-86页 |
致谢 | 第86-88页 |
发表论文 | 第88页 |