| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-18页 |
| ·光折变效应概述 | 第10-12页 |
| ·光折变效应极其物理图像 | 第10-12页 |
| ·光折变效应的主要特征 | 第12页 |
| ·光子晶体 | 第12-16页 |
| ·光子晶体的基本概念 | 第12-14页 |
| ·光子晶体的基本特征 | 第14页 |
| ·理想的二维光子晶体 | 第14-15页 |
| ·理想二维光子晶体原理性器件 | 第15-16页 |
| ·光子晶体的带隙理论 | 第16-17页 |
| ·禁带形成机制 | 第16-17页 |
| ·本论文的研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 一维光子晶格带隙的位置及其影响带宽因素的研究 | 第18-23页 |
| ·实验装置与实验方法 | 第18-20页 |
| ·实验装置 | 第18-19页 |
| ·实验方法 | 第19-20页 |
| ·结果与讨论 | 第20-22页 |
| ·带隙的测定 | 第20-21页 |
| ·时间对带隙宽窄的影响 | 第21页 |
| ·孔间距对带隙的影响 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 光折变光子晶格带隙展宽的实验研究 | 第23-30页 |
| ·实验 | 第23-24页 |
| ·实验装置 | 第23-24页 |
| ·实验方法 | 第24页 |
| ·实验结果 | 第24-28页 |
| ·两孔振幅掩模的带隙分布 | 第24-25页 |
| ·多孔掩模的带隙分布 | 第25-27页 |
| ·带宽的扩展 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 第四章 LiNbO_3:Fe晶体中点缺陷的制作与导光性质的研究 | 第30-43页 |
| ·实验装置 | 第31-33页 |
| ·(2+1)维正方光折变光子晶格的制作 | 第31-32页 |
| ·点缺陷的制作 | 第32页 |
| ·含点缺陷的二维正方光子晶格的制作 | 第32-33页 |
| ·实验结果与讨论 | 第33-39页 |
| ·缺陷在有无光子晶格做衬底时局域光的现象 | 第33-34页 |
| ·辐照时间对缺陷态光子晶格的影响 | 第34-36页 |
| ·晶体的薄厚对带有点缺陷二维光子晶格的影响 | 第36-37页 |
| ·实验中o光与e光的选取 | 第37-38页 |
| ·点缺陷的大小对局域光的影响 | 第38-39页 |
| ·带点缺陷二维光子晶体的理论 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第五章 总结与展望 | 第43-45页 |
| ·工作总结 | 第43-44页 |
| ·未来工作展望 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |