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RF-PECVD制备非晶硅膜及HIT太阳电池的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-19页
 §1-1 全球能源形势第10-11页
 §1-2 太阳电池的研究和发展现状第11-17页
  1-2-1 太阳电池的历史第11-12页
  1-2-2 光伏市场存在的问题第12页
  1-2-3 太阳电池发展现状第12-16页
  1-2-4 光伏市场展望第16-17页
 §1-3 论文研究内容第17页
 参考文献第17-19页
第二章 非晶硅材料与太阳电池基础第19-30页
 §2-1 非晶硅材料基础第19-21页
  2-1-1 氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的发展概况第19页
  2-1-2 稳定优质的氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜的制备工艺第19-21页
 §2-2 太阳电池的工作原理第21-23页
  2-2-1 光电转换过程第21页
  2-2-2 光生伏特效应第21-22页
  2-2-3 P-N 结的形成第22-23页
 §2-3 太阳电池η影响因素第23-28页
  2-3-1 电池的伏安特性第23-25页
  2-3-2 影响电池效率的因素第25页
  2-3-3 半导体中的复合过程第25-28页
 参考文献第28-30页
第三章 非晶硅薄膜材料的沉积与测试原理第30-41页
 §3-1 非晶硅薄膜的沉积原理第30-32页
 §3-2 非晶硅薄膜的测试原理第32-39页
  3-2-1 喇曼散射(Raman)第32-33页
  3-2-2 傅立叶变换红外吸收谱(FTIR)第33-34页
  3-2-3 光、暗电导率以及电导激活能第34-36页
  3-2-4 光热偏转谱(PDS)第36-37页
  3-2-5 透射谱第37-39页
 §3-3 本章小结第39页
 参考文献第39-41页
第四章 RF-PECVD 制备氢化非晶硅薄膜第41-51页
 §4-1 引言第41页
 §4-2 实验设备第41-43页
  4-2-1 采用喷淋式(Shower)电极第41-42页
  4-2-2 等离子体区的屏蔽第42-43页
 §4-3 实验第43页
 §4-4 结果与讨论第43-49页
  4-4-1 气体总流量的影响第43页
  4-4-2 电极间距的影响第43-44页
  4-4-3 氢稀释度的影响第44-48页
  4-4-4 沉积气压的影响第48-49页
 §4-5 本章小结第49页
 参考文献第49-51页
第五章 异质结太阳电池计算机模拟及实验第51-63页
 §5-1 引言第51-52页
 §5-2 非晶硅(a-Si:H )/晶体硅(c-Si) 异质结太阳电池的数值模拟分析第52-57页
  5-2-1 本征层厚度对光伏性能的影响第54-55页
  5-2-2 发射层对光伏性能的影响第55-57页
  5-2-3 界面态对光伏性能的影响第57页
 §5-3 实验第57-58页
 §5-4 结果与讨论第58-60页
  5-4-1 p 层厚度对异质结太阳电池性能的影响第58-59页
  5-4-2 射频功率对异质结太阳电池性能的影响第59页
  5-4-3 掺杂对异质结太阳电池性能的影响第59-60页
  5-4-4 氢稀释度对异质结太阳电池性能的影响第60页
 §5-5 本章小结第60-61页
 参考文献第61-63页
第六章 结论第63-64页
致谢第64-65页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第65页

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