| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-11页 |
| ·BaTi0_3 薄膜在 Ni 基片上生长的概况 | 第11-18页 |
| ·BaTi0_3 材料的结构与性能 | 第11-15页 |
| ·铁电薄膜在贱金属基片上的研究历史与现状 | 第15-18页 |
| ·论文选题及主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 实验原理与实验方法 | 第20-29页 |
| ·BaTi0_3 薄膜的制备 | 第20-23页 |
| ·BaTi0_3 薄膜的结构表征 | 第23-25页 |
| ·BaTi0_3 薄膜的性能表征 | 第25-29页 |
| ·电极制备 | 第25-27页 |
| ·性能表征手段 | 第27-29页 |
| 第三章 氧气氛对BaTi0_3薄膜的影响 | 第29-44页 |
| ·前言 | 第29-30页 |
| ·实验结果及分析 | 第30-39页 |
| ·氧气压对形貌的影响 | 第30-35页 |
| ·氧气压对结构的影响 | 第35-36页 |
| ·氧气压对性能的影响 | 第36-39页 |
| ·过渡层的制备 | 第39-43页 |
| ·过渡层的选择及制备 | 第39-40页 |
| ·过渡层对性能的改善 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 降温速率对BaTi0_3薄膜的影响 | 第44-55页 |
| ·前言 | 第44页 |
| ·降温速率的影响 | 第44-53页 |
| ·降温速率对形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·降温速率对薄膜结构的影响 | 第46-48页 |
| ·降温速率对薄膜性能的影响 | 第48-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 退火处理的影响 | 第55-59页 |
| ·前言 | 第55页 |
| ·退火处理对性能的改善 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 高分子辅助沉积法Ni 基片BaTi0_3薄膜生长研究 | 第59-67页 |
| ·样品制备 | 第59-60页 |
| ·实验结果 | 第60-66页 |
| ·两种方法的比较 | 第66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第七章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第72-73页 |